[发明专利]荧光光源装置及其制造方法在审
| 申请号： | 201780077425.4 | 申请日： | 2017-12-26 |
| 公开（公告）号： | CN110073143A | 公开（公告）日： | 2019-07-30 |
| 发明（设计）人： | 井上正树;芜木清幸 | 申请（专利权）人： | 优志旺电机株式会社 |
| 主分类号： | F21V29/502 | 分类号： | F21V29/502;F21V7/24;F21V7/26;F21V7/28;F21V7/30;F21Y115/30 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 任玉敏 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的目的是提供一种能够稳定地得到较高的发光效率的荧光光源装置及其制造方法。本发明的荧光光源装置的特征在于，具备荧光板，所述荧光板具有由多晶体构成的荧光发光层，在该荧光发光层的激发光入射侧形成有周期构造体；上述荧光板具有：热扩散层，直接接合而设置在上述荧光发光层的激发光入射侧的表面上，具有比上述荧光发光层大的热传导率；以及高热传导层，设置在上述荧光发光层的与激发光入射侧相反侧的背面；上述高热传导层通过光反射层、以及由金属形成的接合层构成；上述荧光板以将配置在上述高热传导层侧的散热基板的表面的一部分覆盖的方式设置。 | ||
| 搜索关键词： | 荧光发光层 荧光板 高热传导层 荧光光源 激发光 入射侧 发光效率 方式设置 光反射层 金属形成 热传导率 热扩散层 散热基板 直接接合 周期构造 多晶体 接合层 相反侧 制造 背面 覆盖 配置 | ||
【主权项】：
1.一种荧光光源装置，其特征在于，具备荧光板，所述荧光板具有由多晶体构成的荧光发光层，在该荧光发光层的激发光入射侧形成有周期构造体，上述荧光板具有：热扩散层，直接接合而设置在上述荧光发光层的激发光入射侧的表面上，具有比上述荧光发光层大的热传导率；以及高热传导层，设置在上述荧光发光层的与激发光入射侧相反侧的背面，上述高热传导层通过光反射层、以及由金属形成的接合层构成，上述荧光板以将配置在上述高热传导层侧的散热基板的表面的一部分覆盖的方式设置。
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