[发明专利]用于测量量规的至少一个几何特征的方法和系统有效
申请号: | 201780071713.9 | 申请日: | 2017-10-17 |
公开(公告)号: | CN110088566B | 公开(公告)日: | 2021-06-22 |
发明(设计)人: | 雷金纳德·盖尔斯蒂恩 | 申请(专利权)人: | 雷金纳德·盖尔斯蒂恩 |
主分类号: | G01B21/04 | 分类号: | G01B21/04;G01B3/30;G01B5/008 |
代理公司: | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 | 代理人: | 王达佐;王艳春 |
地址: | 荷兰*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 在用于测量量规(20)的方法中,本发明提供了一种标准件(30)。该标准件在相互平行的标准件参考平面(31)与标准检测线(35)之间具有经校准的标准距离(33)。当标准件以其标准件参考平面放置在量规参考平面(21)上时,使用测量装置(10)的跟踪点(12)来跟踪标准件。由此,能够可靠地测量标准检测线(35)与装置参考平面(11)之间的距离(43),以及因而可靠地测量量规参考平面(21)与装置参考平面(11)之间的距离。本发明允许在经济实惠的、不复杂的测量装置中可靠地测量量规,以在这些量规不能将它们的量规参考平面放置在装置参考平面上的情况下,可靠地测量装置中的量规。 | ||
搜索关键词: | 用于 测量 量规 至少 一个 几何 特征 方法 系统 | ||
【主权项】:
1.一种用于测量处于量规保持状态下的量规(20)的至少一个几何特征(1)的方法,其中,所述量规保持在装置(10)中,所述装置(10)用于通过使用所述装置的跟踪结构(12、15、16)的跟踪点(12)抵靠并沿着量规轮廓(24、24A)来跟踪所述量规轮廓,以测量所述量规的量规轮廓的至少部分,所述跟踪量规轮廓在跟踪方向(14)上发生,所述跟踪方向(14)至少在与所述量规的量规中心线(27)平行的轴向方向(7)上具有分量,其中:‑所述量规具有量规参考平面(21),所述量规参考平面(21)是所述量规的二维直的外表面部分,并且垂直于所述轴向方向,‑所述量规的所述至少一个几何特征出现在量规平面(22)中,所述量规平面(22)垂直于所述量规中心线,如沿所述量规中心线所示,所述量规平面相对于所述量规参考平面具有预定轴向距离(23);以及其中,如在所述量规保持状态下所示:‑所述装置具有装置参考平面(11),所述装置参考平面(11)是所述装置的二维直的外表面部分,并且垂直于所述轴向方向;‑所述装置配置成:用于在所述跟踪量规轮廓期间,根据时间确定所述跟踪点相对于所述装置参考平面沿着所述轴向方向的相对轴向位置,以及所述跟踪点相对于所述量规中心线的径向位置;其特征在于,所述方法包括以下步骤:·提供至少一个标准件(30、30A),所述至少一个标准件(30、30A)包括:‑标准件‑量规组装装置(32),用于在所述标准件和所述量规的相互组装的标准件‑量规状态下,将所述标准件可释放地组装到所述量规;‑标准件参考平面(31),所述标准件参考平面(31)是所述标准件的二维直的外表面部分,其中,在所述标准–量规状态下,所述标准件参考平面和所述量规参考平面以相互平行的方式彼此接触地抵靠;‑标准件跟踪平面(34),所述标准件跟踪平面(34)是所述标准件的凸状或凹状外表面部分,并且如在所述量规保持状态和所述标准–量规状态两者的组合组装状态下所示,形成用于所述装置的跟踪结构的跟踪点的跟踪表面,其中,所述标准件跟踪平面具有标准检测线(35),所述标准检测线(35)是由所述标准件跟踪平面上的拱顶位置形成的线段,即,以拱顶意义形成的线段,换言之,以在所述组合组装状态下,使用所述跟踪点跟踪所述标准件跟踪平面期间要经历的所述凸形或凹形的顶点意义形成的线段,以及其中,所述标准检测线平行于所述标准件参考平面;以及‑经校准的标准距离(33),如在垂直于所述标准件参考平面的方向上所示,所述经校准的标准距离(33)位于所述标准检测线与所述标准件参考平面之间;·使所述装置(10)、所述量规(20)和所述标准件(30)处于所述组合组装状态;·在所述组合组装状态下:使用所述装置(10)的所述跟踪结构的所述跟踪点(12)来跟踪所述标准件(30)的所述标准件跟踪平面(32),从而在所述跟踪标准件跟踪平面期间,根据时间确定所述跟踪点相对于所述装置参考平面(11)沿所述轴向方向(7)的相对轴向位置,以及所述跟踪点(12)相对于所述量规中心线(27)的径向位置,从而确定沿所述轴向方向所示的、所述标准检测线(34)与所述装置参考平面(11)之间的轴向距离(43)。
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