[发明专利]气体阻隔性膜及柔性电子器件在审
| 申请号： | 201780071065.7 | 申请日： | 2017-11-17 |
| 公开（公告）号： | CN109963711A | 公开（公告）日： | 2019-07-02 |
| 发明（设计）人： | 伊藤丰;山下恭弘 | 申请（专利权）人： | 住友化学株式会社 |
| 主分类号： | B32B9/00 | 分类号： | B32B9/00;C23C16/42;H01L51/50;H05B33/02;H05B33/04 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 牛蔚然;唐峥 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明的目的在于提供尤其是高温高湿下的气体阻隔性的经时性下降被抑制的气体阻隔性膜。本发明涉及气体阻隔性膜，其是至少具有基材层和无机薄膜层的气体阻隔性膜，所述基材层至少包含挠性基材，该基材层与该无机薄膜层之间的密合性按照ASTM D3359测定为2B以上，该无机薄膜层具有至少1个切断端面，并且具有选自由剥离及裂缝组成的组中的至少1种缺陷、或者不具有该缺陷，此处，该无机薄膜层具有该缺陷的情况下，其存在区域为从该切断端面起沿着法线方向的120μm以下的范围内。 | ||
| 搜索关键词： | 气体阻隔性膜 无机薄膜层 基材层 切断端面 柔性电子器件 气体阻隔性 法线方向 高温高湿 挠性基材 经时性 密合性 裂缝 剥离 自由 | ||
【主权项】：
1.气体阻隔性膜，其是至少具有基材层和无机薄膜层的气体阻隔性膜，所述基材层至少包含挠性基材，所述基材层与所述无机薄膜层之间的密合性按照ASTM D3359测定为2B以上，所述无机薄膜层具有至少1个切断端面，并且具有选自由剥离及裂缝组成的组中的至少1种缺陷、或者不具有所述缺陷，此处，所述无机薄膜层具有所述缺陷的情况下，其存在区域为从所述切断端面起沿着法线方向的120μm以下的范围内。
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