[发明专利]用于检查设备的照射源、检查设备及检查方法在审
| 申请号： | 201780070048.1 | 申请日： | 2017-10-12 |
| 公开（公告）号： | CN110268329A | 公开（公告）日： | 2019-09-20 |
| 发明（设计）人： | S·B·罗博尔;S·G·J·马西森 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02F1/35;G01N21/956;H01S3/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王静 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 披露了一种照射源设备，包括高阶谐波产生介质(910)、泵浦辐射源以及空间滤光器(940)。该泵浦辐射源发射泵浦辐射束(950)，该泵浦辐射束具有在所述束的中心区中不包括泵浦辐射的轮廓且激发该高阶谐波产生介质以便产生高阶谐波辐射(920)。该泵浦辐射及所产生的高阶谐波辐射在该泵浦辐射束的焦平面之外是空间上分离的。该空间滤光器位于该泵浦辐射束的焦平面之外，且阻挡该泵浦辐射。还披露一种产生高阶谐波测量辐射的方法，该高阶谐波测量辐射被优化以用于将泵浦辐射从其中滤掉。 | ||
| 搜索关键词： | 泵浦辐射 高阶谐波 辐射 空间滤光器 检查设备 焦平面 照射源 泵浦 测量 辐射源发射 辐射源 中心区 阻挡 激发 优化 检查 | ||
【主权项】：
1.一种照射源设备，包括：高阶谐波产生介质；泵浦辐射源，所述泵浦辐射源能操作以发射泵浦辐射束，所述泵浦辐射束具有在所述束的中心区中不包括泵浦辐射的轮廓，用于激发所述高阶谐波产生介质以便产生高阶谐波辐射；和空间滤光器，所述空间滤光器位于所述泵浦辐射束的焦平面之外，所述空间滤光器能操作以阻挡所述泵浦辐射；其中所述泵浦辐射和所产生的高阶谐波辐射在所述泵浦辐射束的所述焦平面之外是空间上分离的。
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