[发明专利]测量系统、光刻系统和测量目标的方法有效
| 申请号： | 201780069941.2 | 申请日： | 2017-10-23 |
| 公开（公告）号： | CN109952538B | 公开（公告）日： | 2021-10-15 |
| 发明（设计）人： | T·W·图克尔;G·范德祖克;A·辛格 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 胡良均 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 公开了一种测量系统，其中，第一光学系统将输入辐射束分隔成多个分量。调制器接收所述多个分量并以独立于所述多个分量中的至少一个其它分量的方式将调制施加至所述多个分量中的至少一个分量。第二光学系统利用所述多个分量照射目标并将被所述目标散射的辐射引导至检测系统。所述检测系统配置成基于由所述调制器施加至每个分量或每组分量的调制区分被引导至所述检测系统的所述辐射的一个或更多个分量中的每一个分量，或区分被引导至所述检测系统的所述辐射的一组分量或更多组分量中的每一组分量。 | ||
| 搜索关键词： | 测量 系统 光刻 目标 方法 | ||
【主权项】：
1.一种测量系统，包括：第一光学系统，配置成将输入辐射束分隔成多个分量；调制器，配置成接收所述多个分量，并以独立于所述多个分量中的至少一个其它分量的方式将调制施加至所述多个分量中的至少一个分量；和第二光学系统，配置成利用所述多个分量照射目标并将被所述目标散射的辐射引导至检测系统，其中：所述检测系统配置成基于由所述调制器施加至每个分量或每组分量的调制，区分被引导至所述检测系统的所述辐射的一个或更多个分量中的每一个分量，或区分被引导至所述检测系统的所述辐射的一组分量或更多组分量中的每一组分量。
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