[发明专利]成膜装置有效
| 申请号: | 201780067947.6 | 申请日: | 2017-11-06 |
| 公开(公告)号: | CN109923238B | 公开(公告)日: | 2020-05-22 |
| 发明(设计)人: | 松崎淳介;高桥明久;水岛优 | 申请(专利权)人: | 株式会社爱发科 |
| 主分类号: | C23C14/56 | 分类号: | C23C14/56;B65G49/00;H01L21/677 |
| 代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 张泽洲;傅永霄 |
| 地址: | 日本神*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | 提供使用多个基板保持器、对基板的两面能够高效率地成膜、小型且结构简单的通过型的成膜装置。在真空槽(2)内具备对保持于基板保持器(11)的基板(10)上进行成膜的第1及第2成膜区域(4、5)、相对于铅垂面的投影形状形成为连续的环状地设置成通过第1及第2成膜区域(4、5)的搬运路径、在使多个基板保持器(11)水平的状态下沿搬运路径搬运的基板保持器搬运机构(3)。基板保持器搬运机构(3)具备与设置于各基板保持器(11)的被驱动部接触而使基板保持器(11)向移动方向推压来移动的多个驱动部,该驱动部关于相邻的基板保持器(11),以移动方向下游侧的基板保持器(11)的移动方向上游侧的端部、移动方向上游侧的基板保持器(11)的移动方向下游侧的端部接近的状态在第1及第2成膜区域(4、5)搬运。 | ||
| 搜索关键词: | 装置 | ||
【主权项】:
1.一种成膜装置,其特征在于,前述成膜装置具备真空槽、第1成膜区域、第2成膜区域、基板保持器搬运机构,前述真空槽形成单一的真空氛围,前述第1成膜区域设置于前述真空槽内,在保持于基板保持器的基板处形成第1膜,前述第2成膜区域设置于前述真空槽内的前述第1成膜区域的下方或上方的某一方,在保持于前述基板保持器的前述基板形成第2膜,前述基板保持器搬运机构使多个前述基板保持器通过第1成膜区域和前述第2成膜区域,前述基板保持器搬运机构具有搬运路径和驱动部,前述搬运路径形成为,投影至铅垂面的形状为环状的形状,前述驱动部与设置于多个前述基板保持器的被驱动部接触,在维持前述基板保持器的水平状态的同时,推压前述被驱动部,使前述基板保持器沿前述搬运路径移动,前述搬运机构具有第1搬运部和第2搬运部,前述第1搬运部被从前述第1成膜区域的一端遍及至另一端地配置,借助前述驱动部使前述基板保持器通过前述第1成膜区域,前述第2搬运部被从前述第2成膜区域的一端遍及至另一端地配置,借助前述驱动部使前述基板保持器通过前述第2成膜区域,在前述基板保持器搬运机构设置有搬运折回部,前述搬运折回部在维持前述基板保持器的水平状态的同时使前述基板保持器从前述第1搬运部向前述第2搬运部移动,在前述搬运机构,设置有使前述驱动部从前述第2搬运部向前述第1搬运部移动的驱动部折回部。
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