[发明专利]检查衬底的方法、量测设备和光刻系统在审
| 申请号： | 201780063311.4 | 申请日： | 2017-09-28 |
| 公开（公告）号： | CN109844646A | 公开（公告）日： | 2019-06-04 |
| 发明（设计）人： | T·W·图克;A·辛格;G·范德祖 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G01B9/02;G01N21/95;G01N21/956 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 王茂华;董典红 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 公开了量测设备和方法。在一种布置中，检查衬底。由辐射源(50)发射的源辐射光束(131)被分成测量光束(132)和参考光束(133)。用测量光束照射第一目标，第一目标在衬底(W)上。用参考光束照射第二目标(90)，第二目标与衬底分离。从第一目标收集第一散射辐射(134)并将其递送到检测器(80)。从第二目标收集第二散射辐射(135)并将其递送到检测器。在检测器处第一散射辐射与第二散射辐射干涉。第一目标包括第一图案。第二目标包括第二图案或第二图案的光瞳平面图像。第一图案在几何上与第二图案相同，第一图案和第二图案是周期性的并且第一图案的节距与第二图案的节距相同，或两者兼而有之。 | ||
| 搜索关键词： | 图案 散射辐射 检测器 衬底 参考光束 测量光束 量测设备 节距 照射 辐射源 衬底分离 光刻系统 平面图像 源辐射 光瞳 检查 发射 干涉 | ||
【主权项】：
1.一种检查衬底的方法，所述方法包括：将由辐射源发射的源辐射光束分成测量光束和参考光束；用所述测量光束照射第一目标，所述第一目标在所述衬底上；用所述参考光束照射第二目标，所述第二目标与所述衬底分离；从所述第一目标收集第一散射辐射并将所述第一散射辐射递送到检测器；和从所述第二目标收集第二散射辐射并将所述第二散射辐射递送到所述检测器，其中：在所述检测器处所述第一散射辐射与所述第二散射辐射干涉；所述第一目标包括第一图案；所述第二目标包括第二图案或所述第二图案的光瞳平面图像；以及所述第一图案在几何上与所述第二图案相同，或者所述第一图案和所述第二图案是周期性的并且所述第一图案的节距与所述第二图案的节距相同。
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