[发明专利]化学放大型正性光致抗蚀剂组合物和使用它的图案形成方法有效
| 申请号： | 201780062691.X | 申请日： | 2017-10-10 |
| 公开（公告）号： | CN109804311B | 公开（公告）日： | 2023-06-06 |
| 发明（设计）人： | 高市哲正;河户俊二;铃木理人;明石一通;片山朋英 | 申请（专利权）人： | 默克专利有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/039 | 分类号： | G03F7/039;G03F7/38;G03F7/40 |
| 代理公司： | 北京三幸商标专利事务所(普通合伙) 11216 | 代理人： | 刘卓然 |
| 地址： | 德国达*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种适用于形成厚膜的光敏树脂组合物，其包含(A)碱溶性树脂，(B)至少一种从由碱溶性乙烯基树脂和含酸可离解基团的乙烯基树脂构成的群组中选出的增塑剂，(C)产酸剂，和(D)有机溶剂。 | ||
| 搜索关键词： | 化学 大型 正性光致抗蚀剂 组合 使用 图案 形成 方法 | ||
【主权项】：
1.一种化学放大型正性光致抗蚀剂组合物，含有(A)碱溶性树脂，(B)至少一种从由碱溶性乙烯基树脂和含酸可离解基团的乙烯基树脂构成的群组中选出的增塑剂，(C)产酸剂，和(D)有机溶剂，该碱溶性树脂(A)包含含有由通式(1)、通式(2)和通式(3)表示的重复单元并且重均分子量为1,000至200,000的聚合物，![]()
其中R1为氢、烷基或卤素，R2为氢或烷基，R3为C4‑C12叔烷基，m是1至5的正整数。
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