[发明专利]在非二维初始结构上光刻生成目标结构的方法和装置有效
| 申请号： | 201780061245.7 | 申请日： | 2017-08-04 |
| 公开（公告）号： | CN109997081B | 公开（公告）日： | 2021-12-14 |
| 发明（设计）人： | C·库斯;T·胡斯;P-I·迪特里希;M·布莱克;M·L·格德克;N·林德曼 | 申请（专利权）人： | 卡尔斯鲁厄技术研究所 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 殷玲;吴鹏 |
| 地址： | 德国卡*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于通过借助于至少一个光刻光束(060)曝光光刻胶(100)在非二维初始结构(010)上光刻生成目标结构(030)的方法和装置。该方法包括以下步骤：a)检测非二维初始结构(010)的表面的构形(020)；b)将至少一个测试参数用于光刻光束(060)并确定光刻光束(060)与初始结构(010)的相互作用以及由此引起的光刻光束(060)和/或要生成的目标结构(030)的变化；c)确定光刻光束(060)的至少一个校正参数，使得由光刻光束(060)与初始结构(010)的相互作用引起的光刻光束(060)和/或目标结构(030)的变化减少；以及d)通过使用用于光刻光束的至少一个校正参数(060)借助于至少一个光刻光束(060)曝光光刻胶(100)在初始结构(010)上生成期望的目标结构(030)。该方法和装置使得能够在已经存在的非二维初始结构(010)上以高精度光刻生成高分辨率的三维目标结构(030)。 | ||
| 搜索关键词： | 二维 初始 结构 光刻 生成 目标 方法 装置 | ||
【主权项】：
1.一种通过借助于至少一个光刻光束(060)曝光光刻胶(100)来在非二维初始结构(010)上光刻生成目标结构(030)的方法，包括以下步骤：a)检测非二维初始结构(010)的表面的构形(020)；b)将至少一个测试参数用于所述光刻光束(060)并确定所述光刻光束(060)与所述初始结构(010)的相互作用以及由此引起的所述光刻光束(060)和/或要生成的目标结构(030)的变化；c)以这样的方式确定用于所述光刻光束(060)的至少一个校正参数，即减少由所述光刻光束(060)与所述初始结构(010)的相互作用引起的光刻光束(060)和/或要生成的目标结构(030)的变化；以及d)通过使用至少一个用于所述光刻光束(060)的校正参数并借助于所述至少一个光刻光束(060)曝光所述光刻胶(100)而在所述初始结构(010)上生成所需的目标结构(030)。
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