[发明专利]第五主族金属化合物、其制备方法、包含其的膜沉积前体组合物及使用其的膜沉积方法有效
申请号: | 201780055127.5 | 申请日: | 2017-08-23 |
公开(公告)号: | CN109689666B | 公开(公告)日: | 2020-05-05 |
发明(设计)人: | 韩元锡;朴明镐;金大荣;崔晙焕 | 申请(专利权)人: | UP化学株式会社 |
主分类号: | C07F9/00 | 分类号: | C07F9/00;C23C16/18;C23C16/455;C23C16/40;C23C16/34;H01L21/28;H01L21/285;H01L21/02 |
代理公司: | 北京市中伦律师事务所 11410 | 代理人: | 杨黎峰;钟锦舜 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明涉及:一种新的第五主族金属化合物;第五主族金属化合物的制备方法;含有第五主族金属化合物的含第五主族金属的膜沉积前体组合物;和使用该含第五主族金属膜沉积前体组合物的含第五主族金属的膜沉积方法。 | ||
搜索关键词: | 第五 金属 化合物 制备 方法 包含 沉积 组合 使用 | ||
【主权项】:
1.一种第五主族金属化合物,由以下化学式1表示:[化学式1]
其中在所述化学式1中,M是Ta或Nb,R1、R2、R3和R4各自独立地为氢、或者直链或支链的C1‑4烷基,R5是直链或支链的C3‑6烷基,R6、R7和R8各自独立地为直链或支链的C1‑4烷基,并且n是1至4的整数。
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