[发明专利]光学系统、光刻设备与方法有效
| 申请号： | 201780050270.5 | 申请日： | 2017-08-16 |
| 公开（公告）号： | CN109643067B | 公开（公告）日： | 2021-05-11 |
| 发明（设计）人： | J.哈特耶斯 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F7/18;G02B7/02 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 邱军;王蕊瑞 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种用于光刻设备(100A，100B)的光学系统(200)，其具有第一部件(402)、第二部件(404)和光学元件(300)，其中光学元件(300)以力配合接合的方式保持于第一部件(402)与第二部件(404)之间并为此目的而受到夹持力(FK)，其中部件(402、404)中的至少一个包含接触光学元件(300)并具有形状记忆合金的支承部分(412，412’，426)。 | ||
| 搜索关键词： | 光学系统 光刻 设备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于光刻设备(100A，100B)的光学系统(200)，具有：第一部件(402)，第二部件(404)，以及光学元件(300)，其以力配合接合的方式保持于该第一部件(402)与该第二部件(404)之间并为此目的而受到一夹持力(FK)，其中所述部件(402，404)中的至少一个包含接触该光学元件(300)并具有形状记忆合金的支承部分(412，412’，426)。
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