[发明专利]高分子化合物的制造方法

摘要

本发明提供一种高分子化合物的制造方法，其能够效率良好地制造充分降低了卤素原子的含量及羟基的含量的高分子化合物。该高分子化合物具有式(1)：‑[Ar1]‑所示结构单元、式(2)：‑[Ar2]‑所示结构单元及式(3)：‑Ar3所示结构，所述方法包括：第一工序，在溶剂、碱及第一钯化合物的存在下，使式(M‑1)：Z1‑Ar1‑Z2所示化合物及式(M‑2)：Z3‑Ar2‑Z4所示化合物反应而得到反应物；第二工序，在与第一钯化合物不同的第二钯化合物的存在下，使上述反应物及式(M‑3)：Ar3‑Z5所示化合物反应而得到高分子化合物。式中，Ar1及Ar2表示亚芳基等，Ar3表示芳基等。Z1～Z5表示选自取代基A组及取代基B组中的基团。取代基A组：氯原子等，取代基B组：‑B(ORC2)2所示的基团，RC2表示氢原子等。

主权项

1.一种高分子化合物的制造方法，其中，所述高分子化合物具有式(1)所示的结构单元、式(2)所示的结构单元及式(3)所示的结构，所述制造方法包括：第一工序，在溶剂、碱及第一钯化合物的存在下，使式(M‑1)所示的化合物及式(M‑2)所示的化合物反应而得到反应物；以及第二工序，在与第一钯化合物不同的第二钯化合物的存在下，使所述反应物及式(M‑3)所示的化合物反应而得到高分子化合物，Z1——Ar1——Z2    (M‑1)Z3——Ar2——Z4    (M‑2)式(M‑1)和式(M‑2)中，Ar1及Ar2分别独立地表示亚芳基、2价杂环基或2价芳香族胺残基，这些基团任选具有取代基，Z1、Z2、Z3及Z4分别独立地表示选自取代基A组及取代基B组中的基团，其中，在Z1、Z2、Z3及Z4中，至少一种为选自取代基A组中的基团，至少一种为选自取代基B组中的基团，取代基A组：氯原子、溴原子、碘原子及‑O‑S(＝O)2RC1所示的基团，式‑O‑S(＝O)2RC1中，RC1表示烷基或芳基，这些基团任选具有取代基，取代基B组：‑B(ORC2)2所示的基团，式‑B(ORC2)2中，RC2表示氢原子、烷基或芳基，这些基团任选具有取代基，存在的多个RC2任选相同或不同，也任选相互连结而与各自所键合的氧原子一起形成环，Ar3‑Z5  (M‑3)式(M‑3)中，Ar3表示芳基或1价杂环基，这些基团任选具有取代基，Z5表示选自取代基A组及取代基B组中的基团，式(1)、式(2)和式(3)中，Ar1、Ar2及Ar3表示与上述相同的含义。