[发明专利]光刻方法有效
| 申请号： | 201780044896.5 | 申请日： | 2017-06-29 |
| 公开（公告）号： | CN109478025B | 公开（公告）日： | 2020-12-25 |
| 发明（设计）人： | A·B·珍宁科;L·J·A·凡鲍克霍文;S·H·范德穆伦;黄仰山;F·拉托雷;拜尔拉克·摩艾斯特;S·C·J·A·凯吉;E·范德布林克;C·H·斯豪滕;H·P·T·托尔斯马 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王静 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种光刻设备，包括：支撑结构，所述支撑结构被构造成支撑图案形成装置和相关的表膜，所述图案形成装置能够在辐射束的横截面中赋予所述辐射束图案以形成图案化的辐射束；和投影系统，所述投影系统被配置成将所述图案化的辐射束投影至衬底的目标部分上，其中所述支撑结构位于壳体中并且其中压力传感器位于所述壳体中。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光刻设备，包括：支撑结构，所述支撑结构被构造成支撑图案形成装置和相关的表膜，所述图案形成装置能够在辐射束的横截面中将图案赋予所述辐射束以形成图案化的辐射束；和投影系统，所述投影系统被配置成将所述图案化的辐射束投影至衬底的目标部分上，其中所述支撑结构位于壳体中，并且其中压力传感器位于所述壳体中。
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