[发明专利]用于以等离子体处理沉积金属膜的设备有效
| 申请号： | 201780042531.9 | 申请日： | 2017-07-07 |
| 公开（公告）号： | CN109791866B | 公开（公告）日： | 2021-05-07 |
| 发明（设计）人： | 大平·姚;海曼·W·H·拉姆;约翰·C·福斯特;吕疆;许灿;吴典晔;伯·F·马;张镁 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;C23C16/505 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国;赵静 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种用于射频(RF)处理设备中的气体输送设备的实施方式。在一些实施方式中，用于射频(RF)处理设备中的气体输送设备包括：传导气体管线、第一凸缘、第二凸缘和铁氧体材料块，所述传导气体管线具有第一端和第二端；所述第一凸缘耦接至所述第一端；所述第二凸缘耦接至所述第二端，其中所述传导气体管线延伸穿过所述第一凸缘和第二凸缘，且所述传导气体管线在所述第一凸缘和所述第二凸缘之间延伸；和所述铁氧体材料块围绕所述第一凸缘和所述第二凸缘之间的所述传导气体管线。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 等离子体 处理 沉积 金属膜 设备 | ||
【主权项】：
1.一种用于射频(RF)处理设备的气体输送设备，包括：传导气体管线，所述传导气体管线具有第一端和第二端；第一凸缘，所述第一凸缘耦接至所述第一端；第二凸缘，所述第二凸缘耦接至所述第二端，其中所述传导气体管线延伸穿过所述第一凸缘和所述第二凸缘，且所述传导气体管线在所述第一凸缘和所述第二凸缘之间延伸；和铁氧体材料块，所述铁氧体材料块围绕所述第一凸缘和所述第二凸缘之间的所述传导气体管线。
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