[发明专利]光学系统及使用此系统校正掩模缺陷的方法有效

专利信息
申请号: 201780042530.4 申请日: 2017-08-08
公开(公告)号: CN109416507B 公开(公告)日: 2023-02-03
发明(设计)人: M.塞斯尔伯格;V.德米特里耶夫;J.韦尔特;U.斯特恩;T.科恩;E.格莱策 申请(专利权)人: 卡尔蔡司SMT有限责任公司;卡尔蔡司SMS有限公司
主分类号: G03F1/72 分类号: G03F1/72;G02B21/00
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 王蕊瑞
地址: 德国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明关于光学系统,其包含扫描单元、至少包含第一透镜元件的第一透镜元件组,设计以将光束聚焦至焦点的聚焦单元,其中聚焦单元包含第二透镜元件组,其至少包含第二透镜元件,以及成像镜头。成像镜头更包含光瞳平面及波前操纵器。光学系统的波前操纵器配置于成像镜头的光瞳平面中或于与成像镜头的光瞳平面共轭的平面中,或者光学系统的扫描单元配置于与成像镜头的光瞳平面共轭的平面中且波前操纵器在光方向上配置于扫描单元的上游。第二透镜元件组的焦点在聚焦单元的所有焦点位置处位于成像镜头的光瞳平面中。
搜索关键词: 光学系统 使用 系统 校正 缺陷 方法
【主权项】:
1.一种光学系统(1;101;201;301;401;501;601;701),包含:·第一透镜元件组(9;109;209;309;409;509;609;709),至少包含第一透镜元件,·聚焦单元(13;113;213;313;413;513;613;713),其设计成将光束聚焦至焦点(35;135;235;335;435;535;635;735),·其中该聚焦单元(13;113;213;313;413;513;613;713)沿该光学系统的光轴可移动地配置,使得焦点位置能够沿该光学系统的光轴改变,·其中该聚焦单元包含第二透镜元件组(11;11l;211;311;411;511;611;711),其至少包含第二透镜元件,以及·成像镜头(15;115;215;315;415;515;615;715),·其中该成像镜头(15;115;215;315;415;515;615;715)还包含光瞳平面(21;121;221;321;421;521;621;721),·扫描单元(7;107;307;407;507;607;707),其设计使得该焦点能够相对该光轴横向地位移,·波前操纵器(5;105;205;305;405;505;605;705),·其设计使得在彼此不同的该聚焦单元(13;113;213;313;413;513;613;713)的至少两个焦点位置处的RMS波前误差小于100mλ,较佳小于20mλ,·其中该波前操纵器(5;105;205;305;405;505;605;705)配置于该成像镜头的光瞳平面(21;121;221;321;421;521;621;721)中、或配置于与该成像镜头的光瞳平面共轭的平面中,·或该扫描单元配置于与该成像镜头的光瞳平面共轭的平面中且该波前操纵器配置于该光方向上的该扫描单元的上游,其特征在于:该第二透镜元件组(11;111;211;311;411;511;611;711)的焦点在该聚焦单元的两个焦点位置处位于该成像镜头(15;115;215;315;415;515;615;715)的光瞳平面(21;121;221;321;421;521;621;721)中。
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