[发明专利]反转图案形成组合物、反转图案的形成方法以及器件的形成方法有效
| 申请号： | 201780041918.2 | 申请日： | 2017-07-03 |
| 公开（公告）号： | CN109791375B | 公开（公告）日： | 2022-08-30 |
| 发明（设计）人： | 王晓伟;长原达郎 | 申请（专利权）人： | 默克专利有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/40 | 分类号： | G03F7/40 |
| 代理公司： | 北京三幸商标专利事务所(普通合伙) 11216 | 代理人： | 刘卓然 |
| 地址： | 德国达*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | [课题]本发明提供一种组合物，其为使用了对抗蚀图案造成的影响少的水系溶剂的反转图案形成组合物，并且涂布后的平整性和填充性良好，蚀刻耐受性优异。进一步提供一种使用了其的图案的形成方法。[解决手段]一种反转图案形成组合物、以及使用了其的微细图案形成方法，所述反转图案形成组合物包含：包含具有含氮基团的重复单元的聚硅氧烷化合物、以及包含水的溶剂。 | ||
| 搜索关键词： | 反转 图案 形成 组合 方法 以及 器件 | ||
【主权项】：
1.一种反转图案形成组合物，其包含：包含由以下的通式(I)或者(II)表示的重复单元的聚硅氧烷化合物、以及包含水的溶剂，![]()
式中，Ra是含氮基团，此处，所述含氮基团中所含的碳原子数为1～12，且所述含氮基团的与式中的Si直接结合的原子是碳，Rb是含氮基团、氢、羟基、羧基、C1～12的烷基、C1～12的烷氧基、或者C1～12的羟基烷基，此处，所述含氮基团中所含的碳原子数为1～12，且所述含氮基团的与式中的Si直接结合的原子是碳。
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