[发明专利]保护膜、光学膜、层积体、偏振片、图像显示装置以及偏振片的制造方法有效
| 申请号： | 201780034668.X | 申请日： | 2017-03-31 |
| 公开（公告）号： | CN109313300B | 公开（公告）日： | 2021-10-01 |
| 发明（设计）人： | 岩崎迅希;本田和也;岩田行光 | 申请（专利权）人： | 大日本印刷株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30;B32B27/00;C09D4/00;C09D5/00;C09D7/40 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 崔立宇;庞东成 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
根据本发明的一个方式，提供保护膜(20)，其为在偏振片中使用的无基材的保护膜(20)，其具备包含由固化物构成的树脂的芯层(21)、和设置于芯层(21)的一个面(21A)上的粘接性提高层(22)，粘接性提高层(22)的表面(22A)形成保护膜(20)的一个表面(20A)，并且保护膜(20)的厚度小于40μm，并且保护膜(20)的拉伸断裂强度为30N/mm |
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| 搜索关键词： | 保护膜 光学 层积 偏振 图像 显示装置 以及 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种保护膜，其为在偏振片中使用的无基材的保护膜，其中，所述保护膜具备：包含由固化物构成的树脂的芯层；和设置于所述芯层的一个面上的粘接性提高层，所述粘接性提高层的表面形成所述保护膜的一个表面，并且所述保护膜的厚度小于40μm，所述保护膜的拉伸断裂强度为30N/mm2以上。
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