[发明专利]剥离层形成用组合物和剥离层在审
| 申请号： | 201780031564.3 | 申请日： | 2017-05-23 |
| 公开（公告）号： | CN109153851A | 公开（公告）日： | 2019-01-04 |
| 发明（设计）人： | 江原和也;进藤和也 | 申请（专利权）人： | 日产化学株式会社 |
| 主分类号： | C08L79/08 | 分类号： | C08L79/08;C08G73/10;C08K5/3415;C09D179/08 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 刘强 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： |
本发明提供例如包含由下述式(1)表示的聚酰胺酸和有机溶剂的剥离层形成用组合物。(式中，X表示由下述式(2)或式(3)表示的芳族基团，Y表示2价的芳族基团，Z在X为由下述式(2)表示的芳族基团时相互独立地表示由下述式(4)或式(5)表示的芳族基团，在X为由下述式(3)表示的芳族基团时相互独立地表示由下述式(6)或式(7)表示的芳族基团，m表示自然数。) |
||
| 搜索关键词： | 芳族基团 式( 2 ) 式( 1 ) 剥离层 形成用组合物 聚酰胺酸 有机溶剂 式中 | ||
【主权项】：
1.剥离层形成用组合物，其特征在于，包含：由下述式(1)表示的聚酰胺酸、和有机溶剂，[化1]![]()
式中，X表示由下述式(2)或式(3)表示的芳族基团，Y表示2价的芳族基团，Z在X为由下述式(2)表示的芳族基团时相互独立地表示由下述式(4)或式(5)表示的芳族基团，在X为由下述式(3)表示的芳族基团时相互独立地表示由下述式(6)或式(7)表示的芳族基团，m表示自然数，[化2]![]()
[化3]![]()
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日产化学株式会社，未经日产化学株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201780031564.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：树脂组合物
- 下一篇：剥离层形成用组合物和剥离层
