[发明专利]溅射靶材有效
| 申请号： | 201780028481.9 | 申请日： | 2017-05-22 |
| 公开（公告）号： | CN109072419B | 公开（公告）日： | 2020-10-23 |
| 发明（设计）人： | 长谷川浩之;新村梦树 | 申请（专利权）人： | 山阳特殊制钢株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C22C19/03;G11B5/738;G11B5/851;B22F1/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 任岩 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
本发明提供一种溅射靶材，其特征在于，即使不使用纯Ta也能够提高溅射靶材的强度，防止溅射时的裂纹及颗粒，并且能够防止溅射膜的组成不均。本发明提供的溅射靶材的特征在于，以at.％计含有35～50％的Ta，余量由Ni及不可避免的杂质构成，且仅由Ni |
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| 搜索关键词： | 溅射 | ||
【主权项】：
1.一种溅射靶材，以at.％计含有35％～50％的Ta，余量由Ni及不可避免的杂质构成，其特征在于，仅由Ni2Ta化合物相和NiTa化合物相构成，所述Ni2Ta化合物相和所述NiTa化合物相的显微组织的最大内接圆直径为10μm以下。
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