[发明专利]提供目标至极紫外光源的目标区域的方法有效
申请号: | 201780025548.3 | 申请日: | 2017-04-04 |
公开(公告)号: | CN109073965B | 公开(公告)日: | 2021-08-17 |
发明(设计)人: | R·J·拉法克;J·T·斯特瓦特;A·D·拉弗格 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司 |
主分类号: | G03B27/54 | 分类号: | G03B27/54;G21G4/00;G21K5/04;H01H1/00;H05G2/00 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 王茂华;郭星 |
地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 向真空室的内部提供第一目标,朝向第一目标引导第一光束以从第一目标的目标材料形成第一等离子体,第一等离子体与沿着第一发射方向从第一目标发射的粒子和辐射的方向通量相关联,第一发射方向由第一目标的定位确定;向真空室的内部提供第二目标;并且朝向第二目标引导第二光束以从第二目标的目标材料形成第二等离子体,第二等离子体与沿着第二发射方向从第二目标发射的粒子和辐射的方向通量相关联,第二发射方向由第二目标的定位,第一和第二发射方向不同。 | ||
搜索关键词: | 提供 目标 至极 紫外 光源 区域 方法 | ||
【主权项】:
1.一种方法,包括:向真空室的内部提供第一目标,所述第一目标包括在等离子体状态下发射极紫外(EUV)光的目标材料,朝向所述第一目标引导第一光束以从所述第一目标的所述目标材料形成第一等离子体,所述第一等离子体与沿着第一发射方向从所述第一目标被发射的粒子和辐射的方向通量相关联,所述第一发射方向由所述第一目标的定位确定;向所述真空室的内部提供第二目标,所述第二目标包括在等离子体状态下发射极紫外光的目标材料;以及朝向所述第二目标引导第二光束以从所述第二目标的所述目标材料形成第二等离子体,所述第二等离子体与沿着第二发射方向从所述第二目标被发射的粒子和辐射的方向通量相关联,所述第二发射方向由所述第二目标的定位确定,所述第二发射方向不同于所述第一发射方向。
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