[发明专利]用于选择性地增加高阶模的损耗的设备有效
| 申请号： | 201780024608.X | 申请日： | 2017-04-19 |
| 公开（公告）号： | CN109219764B | 公开（公告）日： | 2021-08-27 |
| 发明（设计）人： | L.佐斯特基维茨;M.库克林斯卡;M.纳皮尔拉拉;T.纳西洛维斯基;L.奥斯特罗斯基;A.皮特;M.希曼斯基;K.维索金斯基;A.马克维斯卡;M.穆拉维斯基;T.坦德恩达;B.比恩科瓦斯卡 | 申请（专利权）人： | 波兰光子学和纤维中心 |
| 主分类号： | G02B6/122 | 分类号： | G02B6/122;G02B6/255 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 郑瑾彤;申屠伟进 |
| 地址： | 波兰*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种用于选择性地增加高阶模的损耗的设备（3），其特征在于，其包括在以特定波长的多模光纤上实施的光纤拉锥，并且光纤拉锥（7）具有分离的区域，即总长度为（a1）和（a2）的未拉锥光纤区域，其中光纤直径等于（d1）；总长度为（b1）和（b2）的过渡区域，其中光纤直径分别减小/增大；以及总长度为（c）的拉锥腰部区域，其中光纤直径等于（d2），并且拉锥水平被定义为R=((d1‑d2)/d1)·100％并且等于至少20%，并且过渡区域的长度为（b1）至少0.5mm，（b2）等于或大于0mm，拉锥腰部的长度至少为0.5mm，并且拉锥区域涂覆有具有衰减特性的滤波物质。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 选择性 增加 高阶模 损耗 设备 | ||
【主权项】：
1.一种用于选择性地增加高阶模的损耗的设备（3），其特征在于，其是以在特定波长的多模光纤上实施的至少一个光纤拉锥的形式，并且其特征在于，所述光纤拉锥（7）具有分离的区域，即总长度为（a1）和（a2）的未拉锥光纤区域，其中光纤直径等于（d1）；总长度为（b1）和（b2）的过渡区域，其中光纤直径分别减小/增大；以及总长度为（c）的拉锥腰部区域，其中光纤直径等于（d2），并且拉锥水平被定义为R=((d1‑d2)/d1)·100％并且等于至少20%，并且过渡区域的长度等于（b1）至少为0.5mm，（b2）等于或大于0mm，拉锥腰部区域的长度至少为0.5mm，并且所述拉锥区域涂覆有具有衰减特性的滤波物质。
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