[发明专利]产生无机薄膜的方法在审
申请号: | 201780023267.4 | 申请日: | 2017-04-10 |
公开(公告)号: | CN109072431A | 公开(公告)日: | 2018-12-21 |
发明(设计)人: | C·林伯格;D·勒夫勒;H·威尔默;M·沃特尔;M·雷纳斯 | 申请(专利权)人: | 巴斯夫欧洲公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C01G51/00;C01G53/00;C07F15/04;C07F15/06 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人: | 刘娜;刘金辉 |
地址: | 德国莱茵河*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: |
本发明属于在衬底上产生无机薄膜的方法的领域。特别地,本发明涉及一种包括使通式(I)化合物变为气态或气溶胶态 |
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搜索关键词: | 气溶胶态 无机薄膜 衬底 配体 配位 烷基 彼此独立 甲硅烷基 氮原子 链烯基 磷原子 芳基 沉积 | ||
【主权项】:
1.一种方法,包括使通式(I)化合物变为气态或气溶胶态,且将通式(I)化合物由气态或气溶胶态沉积至固体衬底上:
其中R彼此独立地为氢、烷基、链烯基、芳基或甲硅烷基,p为1、2或3,M为Ni或Co,X为与M配位的供σ配体,其中若存在,则至少一个X为经由磷原子或氮原子与M配位的配体,m为1或2且n为0至3。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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