[发明专利]测量基材上沉积的涂层的厚度的光学方法有效
申请号: | 201780005995.2 | 申请日: | 2017-01-04 |
公开(公告)号: | CN108474739B | 公开(公告)日: | 2021-10-01 |
发明(设计)人: | G·E·莫伊勒 | 申请(专利权)人: | 阿科玛股份有限公司 |
主分类号: | G01N21/27 | 分类号: | G01N21/27;B05C21/00;G01B11/06;G01B21/08;G01J3/42 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 乐洪咏;沙永生 |
地址: | 美国宾夕*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本申请提供了测量物体上涂层厚度的方法和装置。在物体上预定位置处将光引导到物体,使得一部分光与物体相互作用。拍摄由与物体相互作用的那部分光产生的图像,该图像具有至少两个波长通道(例如颜色通道)。基于所述至少两个波长通道中每个通道的直方图,确定所述至少两个波长通道中每一个之间的相对偏差。基于所确定的相对偏差,确定物体上涂层的厚度和/或涂层的可接受度。 | ||
搜索关键词: | 测量 基材 沉积 涂层 厚度 光学 方法 | ||
【主权项】:
1.一种测量物体上涂层厚度的装置,所述装置包含:至少一个光源,其构造成在物体上的预定位置处将光引导到物体,一部分光与物体相互作用;探测器,其构造成拍摄由与物体相互作用的那部分光产生的图像,该图像具有至少两个波长通道;与探测器连接的测量设备,该测量设备构造成:基于所述至少两个波长通道中每个波长通道的直方图,确定所述至少两个波长通道中每一个之间的相对偏差;以及基于所确定的相对偏差,确定物体上涂层的厚度和/或涂层的可接受度。
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