[发明专利]高强度透明聚酰胺-酰亚胺及其制造方法有效
| 申请号: | 201780005069.5 | 申请日: | 2017-04-12 |
| 公开(公告)号: | CN108431090B | 公开(公告)日: | 2020-08-28 |
| 发明(设计)人: | 尹哲民;徐浚植;金璟晙 | 申请(专利权)人: | 株式会社LG化学 |
| 主分类号: | C08G73/14 | 分类号: | C08G73/14;C08G73/10;C08J5/18;C08L79/08 |
| 代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 顾晋伟;郑毅 |
| 地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | 本发明中提供了在保持透明度的同时具有显著增强的机械物理特性和耐热性的聚酰胺‑酰亚胺膜。聚酰胺‑酰亚胺具有优异的透明度、耐热性、机械强度和柔性,因此可以用于各种领域,包括装置基底、用于显示器的覆盖基底、光学膜、集成电路(IC)封装件、粘合膜、多层柔性印刷电路、带、触摸面板和用于光盘的保护膜。 | ||
| 搜索关键词: | 强度 透明 聚酰胺 亚胺 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种聚酰胺‑酰亚胺,同时包含以下化学式1a的重复结构、以下化学式1b的重复结构和以下化学式1c的重复结构,其中,基于化学式1a的重复结构和化学式1b的重复结构的总量,化学式1b的重复结构以5mol%至20mol%的量被包含:[化学式1a]
[化学式1b]
[化学式1c]
在化学式1a、1b和1c中,X1为衍生自四羧酸二酐的以下化学式2的四价有机基团:[化学式2]
X2为衍生自四羧酸二酐的以下化学式3的四价有机基团:[化学式3]
在化学式3中,A为‑O‑、‑CR15R16‑、‑C(=O)‑、‑C(=O)O‑、‑C(=O)NH‑、‑S‑、‑SO2‑、亚苯基及其组合,其中R15和R16可以各自独立地选自氢原子、C1‑10烷基和C1‑10氟烷基,X3为衍生自以下化学式4的化合物的二价有机基团:[化学式4]
在化学式4中,Z各自独立地为选自以下的一者:羟基(‑OH);选自‑Cl、‑Br、‑F和‑I的卤化物基团;以及C1‑5烷氧基(‑OR),Y1、Y2和Y3各自独立地为衍生自二胺的二价有机基团,并且其至少一者包含以下化学式5的二价有机基团:[化学式5]
在化学式5中,R1和R2各自独立地为选自以下的取代基:选自‑F、‑Cl、‑Br和‑I的卤素原子;羟基(‑OH);硫醇基(‑SH);硝基(‑NO2);氰基;C1‑10烷基;C1‑4卤代烷氧基;C1‑10卤代烷基;以及C6‑20芳基,Q选自单键、‑O‑、‑CR18R19‑、‑C(=O)‑、‑C(=O)O‑、‑C(=O)NH‑、‑S‑、‑SO2‑、亚苯基及其组合,其中R18和R19各自独立地选自氢原子、C1‑10烷基和C1‑10氟烷基。
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