[发明专利]薄膜的处理方法、及偏光薄膜的制造方法有效
| 申请号： | 201780002396.5 | 申请日： | 2017-07-07 |
| 公开（公告）号： | CN107922654B | 公开（公告）日： | 2021-03-19 |
| 发明（设计）人： | 川上直纪;井上龙一;藤井裕己;西川雅之;三岛隼 | 申请（专利权）人： | 日东电工株式会社 |
| 主分类号： | C08J7/00 | 分类号： | C08J7/00;G02B5/30 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 薄膜处理具有：将薄膜(B)浸渍于染色浴(2)的染色工序、将经染色的薄膜(B)浸渍于交联浴(3)的交联工序、及将经交联的薄膜(B)浸渍于调整浴(5)的调整工序。前述调整浴(5)具有前述包含硼化合物及碘化合物的溶液，从前述调整浴(5)中将溶液的一部分取出，用反渗透膜(71)将该溶液分离为包含硼化合物的溶液和包含碘化合物的溶液，向前述调整浴(5)补充包含碘化合物的溶液。根据本发明，能够与薄膜处理一起一系列地从剩余液中分离有效成分并再利用。 | ||
| 搜索关键词： | 薄膜 处理 方法 偏光 制造 | ||
【主权项】：
一种薄膜的处理方法，其具有：将薄膜浸渍于具有包含硼化合物及碘化合物的溶液的浴中的工序(X)，从所述浴中将所述溶液的一部分取出，用反渗透膜将该溶液分离为包含硼化合物的溶液和包含碘化合物的溶液。
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