[发明专利]物质波治疗方法和非侵入式检查设备有效
申请号: | 201780001709.5 | 申请日: | 2017-03-31 |
公开(公告)号: | CN107709922B | 公开(公告)日: | 2022-03-04 |
发明(设计)人: | 甘万达;甘芳齐 | 申请(专利权)人: | 甘万达;甘芳齐 |
主分类号: | G01B11/00 | 分类号: | G01B11/00 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 吕俊刚 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种非接触角测量设备包括物质波和能量(MWE)粒子源和检测器。MWE粒子源用于生成玻色子或费米子粒子。检测器用于检测由1)与第一平面的缝、凸块或孔对应的玻色子或费米子粒子和2)与被第二平面反射的玻色子或费米子粒子相关联的物质波的波前分割生成的干涉图案的多个峰或谷,其中,所述干涉图案的所述多个峰或谷的角位置、所述第一平面与所述第二平面的接合区域之间的第一距离、以及所述检测器和所述缝、凸块或孔之间的第二距离用于决定所述第一平面和所述第二平面之间的角度。 | ||
搜索关键词: | 物质 治疗 方法 侵入 检查 设备 | ||
【主权项】:
一种非接触角测量设备,该非接触角测量设备包括:物质波和能量(MWE)粒子源,其用于生成玻色子或费米子粒子;以及检测器,其用于检测由与第一平面的缝、凸块或孔对应的玻色子或费米子粒子和与被第二平面反射的玻色子或费米子粒子相关联的物质波生成的干涉图案的多个峰或谷,其中,所述干涉图案的所述多个峰或谷的角位置、所述第一平面与所述第二平面的接合区域之间的第一距离、以及所述检测器和所述缝之间的第二距离用于决定所述第一平面与所述第二平面之间的角度。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于甘万达;甘芳齐,未经甘万达;甘芳齐许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201780001709.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。