[发明专利]光学检测系统在审

专利信息
申请号: 201780000047.X 申请日: 2017-01-26
公开(公告)号: CN107110790A 公开(公告)日: 2017-08-29
发明(设计)人: 吴昌力;刘颖 申请(专利权)人: 香港应用科技研究院有限公司
主分类号: G01N21/88 分类号: G01N21/88
代理公司: 深圳新创友知识产权代理有限公司44223 代理人: 江耀纯
地址: 中国香港新界沙田香港*** 国省代码: 香港;81
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摘要: 发明提供一种光学检测系统,在制造期间检测物体诸如电子装置等的缺陷。光学检测系统包括第一线光源,其沿着扫描线照射第一光束到物体顶表面上,横跨物体宽度。第二线光源与第一线光源之间形成一个角度,照射第二光束到物体的侧表面上。照相机接收来自物体顶表面和侧表面的散射光,并沿着扫描线拍摄物体的子图像。图像处理系统从照相机接收每个子图像,拼接子图像,并检测物体顶表面和侧表面上的缺陷。
搜索关键词: 光学 检测 系统
【主权项】:
一种检测物体缺陷的光学检测系统,包括:第一线光源,其长度比所述物体的宽度更长,位于所述物体的上方,并沿着扫描线,照射第一光束到所述物体顶表面上,横跨所述物体宽度;第二线光源,其与所述第一线光源形成一个35‑45度范围的角度,并照射第二光束到所述物体侧表面上;相机,其接收来自所述物体顶表面和侧表面上的散射光,所述物体处于所述第一线光源和所述第二线光源的照明下,所述相机沿着所述扫描线拍摄所述物体的子图像;和图像处理系统,其从所述相机接收每个子图像,拼接所述子图像,并检测所述物体顶表面和侧表面上的缺陷。
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