[实用新型]FPC加工过程中防止金水浪费专用结构有效
申请号: | 201721863184.X | 申请日: | 2017-12-27 |
公开(公告)号: | CN207685344U | 公开(公告)日: | 2018-08-03 |
发明(设计)人: | 邓发明;刘兆平;徐汇;李记勇;王步高;赵检波;李世荣;赵财林;邹全强;刘照勇;陈路生;肖应山;王刚;陈清;张玉才;杨涛;赵红武;杨红波 | 申请(专利权)人: | 深圳市蓝特电路板有限公司 |
主分类号: | C23C18/42 | 分类号: | C23C18/42 |
代理公司: | 深圳市汉唐知识产权代理有限公司 44399 | 代理人: | 刘海军 |
地址: | 518000 广东省深圳*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型公开一种FPC加工过程中防止金水浪费专用结构,包括生产线主体、支撑架和防溅挡板,生产线主体内设有浸镀槽和清洗槽,浸镀槽和清洗槽相邻设置,浸镀槽和清洗槽相对独立设置,浸镀槽和清洗槽之间设有挡板,支撑架设置在浸镀槽和清洗槽之间位置,支撑架设有两个,两个支撑架分别固定设置在生产线主体两侧,两个支撑架对应设置,支撑架顶部开设有支撑缺口,两个支撑架上的支撑缺口对应设置,支撑缺口的开口朝上,两个支撑架之间固定安装有防溅挡板,防溅挡板靠近清洗槽一侧设置。本实用新型在浸镀槽旁边设有支撑架,可将浸镀后的FPC放在支撑架上,让FPC上沾有的浸镀液低落回流至浸镀槽中,以减少浪费,节约加工成本。 | ||
搜索关键词: | 支撑架 浸镀槽 清洗槽 生产线主体 防溅挡板 本实用新型 专用结构 支撑 金水 支撑架顶部 挡板 固定设置 开口朝上 相对独立 相邻设置 浸镀液 浸镀 架设 节约 加工 | ||
【主权项】:
1.一种FPC加工过程中防止金水浪费专用结构,其特征是:所述的防止金水浪费专用结构包括生产线主体、支撑架和防溅挡板,生产线主体内设有浸镀槽和清洗槽,浸镀槽和清洗槽相邻设置,浸镀槽和清洗槽相对独立设置,浸镀槽和清洗槽之间设有挡板,支撑架设置在浸镀槽和清洗槽之间位置,支撑架设有两个,两个支撑架分别固定设置在生产线主体两侧,两个支撑架对应设置,支撑架顶部开设有支撑缺口,两个支撑架上的支撑缺口对应设置,支撑缺口的开口朝上,两个支撑架之间固定安装有防溅挡板,防溅挡板靠近清洗槽一侧设置。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市蓝特电路板有限公司,未经深圳市蓝特电路板有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201721863184.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种蜂窝状载体表面原子层涂层装置
- 下一篇:一种用于激光熔覆的铺粉装置
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理