[实用新型]一种除臭抗菌专用的浸渍装置

摘要

本实用新型公开了一种除臭抗菌专用的浸渍装置，包括支架和浸渍池组，所述浸渍池组包括沿水平方向依次布置的光触媒池、银离子池和清洗池，浸渍池组上方设有用于水平托起待浸渍物件的托架，所述支架上设有能上下移动的升降装置，所述升降装置上设有能带动所述托架相对其作水平直线移动的水平移动装置，托架的水平移动方向与浸渍池组的布置方向相平行。本实用新型提供的除臭抗菌专用的浸渍装置，能通过一台设备利用光触媒和银离子一次性对大量的产品进行除臭抗菌的处理，设备、运输和储存成本更低。

主权项

1.一种除臭抗菌专用的浸渍装置，包括支架(1)和浸渍池组，其特征在于，所述浸渍池组包括沿水平方向依次布置的光触媒池(2)、银离子池(7)和清洗池(8)，浸渍池组上方设有用于水平托起待浸渍物件的托架(5)，所述支架(1)上设有能上下移动的升降装置(3)，所述升降装置(3)上设有能带动所述托架(5)相对其作水平直线移动的水平移动装置(4)，托架(5)的水平移动方向与浸渍池组的布置方向相平行。