[实用新型]涂胶显影设备机台光刻胶排液管道结构有效
| 申请号： | 201721711738.4 | 申请日： | 2017-12-11 |
| 公开（公告）号： | CN207992684U | 公开（公告）日： | 2018-10-19 |
| 发明（设计）人： | 何彦君 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/26 | 分类号： | G03F7/26 |
| 代理公司： | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人： | 栾美洁 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种涂胶显影设备机台光刻胶排液管道结构，涂胶显影设备机台光刻胶排液管道结构，所述排液管道上设有若干排液口，所述排液管道上加装若干清洁口。与现有的排液管道清洁方法相比，本实用新型通过对机台的光刻胶排液管道结构进行改造，简化了清洁过程，改善了清洁效果，降低了管道定期清洁的频率以及机台发生故障的频率。 | ||
| 搜索关键词： | 排液管道 机台 光刻胶 涂胶显影设备 本实用新型 发生故障 清洁过程 清洁效果 清洁 排液口 清洁口 加装 改造 | ||
【主权项】：
1.一种涂胶显影设备机台光刻胶排液管道结构，所述排液管道上设有若干排液口，其特征在于，所述排液管道上加装若干清洁口。
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