[实用新型]光刻装置及其主基板结构与主基板单元有效
申请号: | 201721648372.0 | 申请日: | 2017-11-30 |
公开(公告)号: | CN207817402U | 公开(公告)日: | 2018-09-04 |
发明(设计)人: | 李佳;杨志斌;刘伟;龚辉 | 申请(专利权)人: | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 屈蘅;李时云 |
地址: | 201203 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型提供了一种光刻装置及其主基板结构与主基板单元,所述主基板结构包括主基板,所述主基板由铝合金制成,所述主基板内设有调温通道,所述调温通道内流通有用于调节温度的调温流体。本实用新型提供的光刻装置及其主基板结构与主基板单元,通过以铝合金材料的主基板代替现有材料的基板,可以利用铝材料的导热系数较高的特点使得热量可以快速在基板内传递,避免了温度的变化带来的形变。同时,本实用新型还通过调温通道以及所述调温通道内流通有用于调节温度的调温流体,进一步以主动调节的方式调节了基板的温度。 | ||
搜索关键词: | 主基板 调温通道 本实用新型 主基板单元 光刻装置 基板 调温流体 铝合金材料 导热系数 主动调节 铝材料 铝合金 形变 流通 传递 | ||
【主权项】:
1.一种主基板结构,其特征在于,包括主基板,所述主基板由铝合金制成,所述主基板内设有调温通道,所述调温通道内流通有用于调节温度的调温流体。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海微电子装备(集团)股份有限公司,未经上海微电子装备(集团)股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201721648372.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种UV纳米涂胶设备
- 下一篇:节能曝光机