[实用新型]一种带有清洗机构的抛光装置有效
| 申请号: | 201721608715.0 | 申请日: | 2017-11-27 | 
| 公开(公告)号: | CN207616355U | 公开(公告)日: | 2018-07-17 | 
| 发明(设计)人: | 顾龙元;方国士;缪惠明 | 申请(专利权)人: | 苏州市润达机械制造有限公司 | 
| 主分类号: | B24B29/04 | 分类号: | B24B29/04;B24B41/06;B24B47/20;B24B55/06 | 
| 代理公司: | 苏州铭浩知识产权代理事务所(普通合伙) 32246 | 代理人: | 朱斌兵 | 
| 地址: | 215000 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 | 
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| 摘要: | 本实用新型涉及一种带有清洗机构的抛光装置,基座上设有左定位块和右定位块;左定位块和右定位块上分别开有左定位孔和右定位孔,且上述两个定位孔位于同一轴心线上;左定位块的一侧设有电机;电机的转轴一侧设有位于左定位孔内的左圆柱块,且左圆柱块内开有容纳槽;右定位孔内设有固定筒,固定筒的内径与电机轴的直径相同;左圆柱块和固定筒的材质均为电磁铁;右定位块一侧设有伸缩气缸;伸缩气缸的伸缩杆上设有位于固定筒内的电磁铁块;左定位块和右定位块之间设有可滑动的基板;基板上设有可上下升降的抛光组件;右定位块和气缸架之间还设有清洗机构,本实用新型可以自动对电机轴进行抛光处理,抛光效率高,并且还能对电机轴进行清洗。 | ||
| 搜索关键词: | 右定位块 左定位块 固定筒 清洗机构 电机轴 定位孔 圆柱块 本实用新型 抛光装置 伸缩气缸 左定位孔 基板 电机 电磁铁 同一轴心线 电磁铁块 抛光处理 抛光效率 抛光组件 上下升降 可滑动 气缸架 容纳槽 伸缩杆 内开 转轴 清洗 | ||
【主权项】:
                1.一种带有清洗机构的抛光装置,其特征在于:包括基座、左定位块、右定位块、电机座、电机、左圆柱块、固定筒、气缸架、伸缩气缸、电磁铁块、基板、抛光组件和清洗机构;所述基座上设有左定位块和右定位块;所述左定位块和右定位块上分别开有左定位孔和右定位孔,且上述两个定位孔位于同一轴心线上;所述左定位块的一侧设有位于电机座上的电机;所述电机的转轴一侧设有位于左定位孔内的左圆柱块,且左圆柱块内开有容纳电机轴的容纳槽;所述右定位孔内设有固定筒,上述固定筒的内径与电机轴的直径相同;所述左圆柱块和固定筒的材质均为电磁铁;所述右定位块一侧设有位于气缸架上的伸缩气缸;所述伸缩气缸的伸缩杆上设有位于固定筒内的电磁铁块;所述左定位块和右定位块之间设有可滑动的基板;所述基板上设有可上下升降的抛光组件;所述右定位块和气缸架之间还设有清洗机构,用于对抛光后的电机轴进行清洗。
            
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