[实用新型]提高X射线反射镜薄膜均匀性和生产效率的装置有效
| 申请号： | 201721383956.X | 申请日： | 2017-10-25 |
| 公开（公告）号： | CN207632878U | 公开（公告）日： | 2018-07-20 |
| 发明（设计）人： | 张众;黄秋实;沈正祥 | 申请（专利权）人： | 同济大学 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/04;C23C14/50 |
| 代理公司： | 上海科盛知识产权代理有限公司 31225 | 代理人： | 翁惠瑜 |
| 地址： | 200092 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种提高X射线反射镜薄膜均匀性和生产效率的装置，包括靶枪、掩膜版、样品架和电机，所述掩膜版设置于靶枪与样品架之间，且固定于所述靶枪上，所述样品架与靶枪间隔设置，所述电机与样品架连接，控制样品架围绕所述靶枪旋转，所述样品架设有多个，所述掩膜版遮盖所述靶枪的靶面，且使靶面在不同位置处具有不同宽度的未遮掩面。与现有技术相比，本实用新型能实现多个反射镜不同位置的厚度均匀性偏差在2％以内，保证膜厚均匀性的同时提高生产效率。 | ||
| 搜索关键词： | 样品架 生产效率 掩膜版 薄膜均匀性 本实用新型 靶面 电机 厚度均匀性 膜厚均匀性 间隔设置 反射镜 位置处 遮盖 遮掩 架设 保证 | ||
【主权项】：
1.一种提高X射线反射镜薄膜均匀性和生产效率的装置，其特征在于，包括靶枪、掩膜版、样品架和电机，所述掩膜版设置于靶枪与样品架之间，且固定于所述靶枪上，所述样品架与靶枪间隔设置，所述电机与样品架连接，控制样品架围绕所述靶枪旋转，所述样品架设有多个。
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