[实用新型]一种具有可调节电极的PECVD设备有效
| 申请号: | 201721349871.X | 申请日: | 2017-10-18 |
| 公开(公告)号: | CN207376115U | 公开(公告)日: | 2018-05-18 |
| 发明(设计)人: | 刘振波;张向阳 | 申请(专利权)人: | 深圳海容高新材料科技有限公司 |
| 主分类号: | C23C16/509 | 分类号: | C23C16/509;B82Y40/00 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 518000 广东省深圳市前海深港合作区前*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | 本实用新型公开了一种具有可调节电极的PECVD设备,PECVD设备具有矩形的镀膜空腔,镀膜空腔的左右两竖直侧壁分别安装有左绝缘条阵列和右绝缘条阵列,左绝缘条阵列和右绝缘条阵列包括多个上下等间隔设置的长条形绝缘条,长条形绝缘条远离竖直侧壁的侧面固定安装有与射频电源连接的触片,还包括多个可活动抽取的电极模组,每个电极模组包括阴极电极板以及固定连接在阴极电极板下方的阳极电极板,当电极模组插入时,阴极电极板的左右侧边与镀膜空腔的左右两竖直侧壁接触形成接地,阳极电极板的左右侧边通过触片与射频电源连接,本电极之间的间距可以根据需要进行灵活调节,满足了不同大小工件的多样化加工需求,较大程度的利用了镀膜空间,大大节省了纳米材料。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 具有 调节 电极 pecvd 设备 | ||
【主权项】:
1.一种具有可调节电极的PECVD设备,其特征在于,所述PECVD设备具有矩形的镀膜空腔,镀膜空腔的前端呈开口状且开口处铰接有一可打开的密封门,镀膜空腔的左右两竖直侧壁分别固定安装有左绝缘条阵列和右绝缘条阵列,所述左绝缘条阵列和右绝缘条阵列包括多个上下等间隔设置的长条形绝缘条,长条形绝缘条远离竖直侧壁的侧面固定安装有与射频电源连接的触片,所述左绝缘条阵列的多个长条形绝缘条和右绝缘条阵列的多个长条形绝缘条一一正对设置,还包括多个可活动抽取的电极模组,每个电极模组包括阴极电极板以及固定连接在阴极电极板下方的阳极电极板,所述阴极电极板左右侧边之间的宽度大于阳极电极板左右侧边之间的宽度,所述阴极电极板与阳极电极板通过绝缘体固定连接,当所述电极模组插入时,阴极电极板的左右侧边与镀膜空腔的左右两竖直侧壁接触形成接地,阳极电极板的左右侧边通过触片与射频电源连接。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





