[实用新型]一种铜箔后处理自动接驳装置有效
| 申请号： | 201721172542.2 | 申请日： | 2017-09-13 |
| 公开（公告）号： | CN207127014U | 公开（公告）日： | 2018-03-23 |
| 发明（设计）人： | 谢达云;王镇;李凯顺;李富明;丘建均;李勇勇;李远泰 | 申请（专利权）人： | 梅州市威利邦电子科技有限公司 |
| 主分类号： | B21C47/26 | 分类号： | B21C47/26;B66F7/08;B66F7/28 |
| 代理公司： | 广州市越秀区海心联合专利代理事务所(普通合伙)44295 | 代理人： | 罗振国 |
| 地址： | 514768 广东省梅州市梅*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种铜箔后处理自动接驳装置；属于铜箔后处理设备技术领域；其技术要点包括机架，所述机架上设有相互配合的上接驳平台和下接驳平台，在上接驳平台上设有切断机构；在上接驳平台两侧均设有上导向辊；所述下接驳平台连接有下升降驱动机构；所述下接驳平台连接有负压机构；在上接驳平台侧边的机架上设有铜箔刹车机构；输送状态下，铜箔穿过上、下接驳平台之间后进入后一工序设备，换卷状态下，下接驳平台上升与上接驳平台配合实现新铜箔卷和上一卷铜箔卷的接驳；本实用新型旨在提供一种使用方便、效果良好的铜箔后处理自动接驳装置；用于铜箔生产。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 铜箔 处理 自动 接驳 装置 | ||
【主权项】：
一种铜箔后处理自动接驳装置，包括机架(1)，其特征在于，所述机架(1)上设有相互配合的上接驳平台(2)和下接驳平台(3)，在上接驳平台(2)上设有切断机构(4)；在上接驳平台(2)两侧均设有上导向辊(5)；所述下接驳平台(3)连接有下升降驱动机构(6)；所述下接驳平台(3)连接有负压机构(7)；在上接驳平台(2)侧边的机架(1)上设有铜箔刹车机构(8)；输送状态下，铜箔穿过上、下接驳平台(3)之间后进入后一工序设备，换卷状态下，下接驳平台(3)上升与上接驳平台(2)配合实现新铜箔卷和上一卷铜箔卷的接驳。
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