[实用新型]一种用于半导体产品的超声波清洗装置有效
| 申请号： | 201721102983.5 | 申请日： | 2017-08-31 |
| 公开（公告）号： | CN207254846U | 公开（公告）日： | 2018-04-20 |
| 发明（设计）人： | 陈四平 | 申请（专利权）人： | 惠州市胜镁半导体电子有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/12 | 分类号： | B08B3/12;B08B3/10;H01L21/67 |
| 代理公司： | 惠州创联专利代理事务所(普通合伙)44382 | 代理人： | 韩淑英 |
| 地址： | 516100 广东省*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种用于半导体产品的超声波清洗装置，包括水槽、用于将水导入水槽的水泵、设置于水槽内部的第一超声波发生器和第二超声波发生器，以及设置在第一水槽底面中间位置处的用于放置待清洗产品的置物台；所述第一超声波发生器和第二超声波发生器分别设置在置物台的两侧。本实用新型在放置待清洗产品的置物台两侧设置了两个超声波发生器，结合热水对产品进行清洗，能够有效地将产品表面附着的异物震下。同时，直接在热水中使用超声波进行清洗，简化了清洗工序且不必再设置额外的水槽，节省了空间并提高了工作效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 半导体 产品 超声波 清洗 装置 | ||
【主权项】：
一种用于半导体产品的超声波清洗装置，其特征在于，包括水槽（1）、用于将水导入水槽的水泵（2）、设置于水槽内部的第一超声波发生器（3）和第二超声波发生器（4），以及设置在第一水槽底面中间位置处的用于放置待清洗产品（6）的置物台（5）；所述第一超声波发生器（3）和第二超声波发生器（4）分别设置在置物台（5）的两侧。
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