[实用新型]一种设置固体弧光等离子体清洗源的镀膜机有效
| 申请号： | 201721044882.7 | 申请日： | 2017-08-21 |
| 公开（公告）号： | CN207760414U | 公开（公告）日： | 2018-08-24 |
| 发明（设计）人： | 王福贞 | 申请（专利权）人： | 王福贞 |
| 主分类号： | C23C14/02 | 分类号： | C23C14/02;C23C14/32;C23C14/35 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 100102 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种设置固体弧光等离子体清洗源的镀膜机。本实用新型在平面磁控溅射镀膜机、在安装旋靶管型柱状磁控溅射靶磁控溅射镀膜机和在阴极电弧离子镀膜机的镀膜室中设置固体弧光等离子体清洗源。固体弧光等离子体清洗源的阴极和阳极分设在工件的两侧。在清洗过程中，两极间产生的弧光放电等离子体中的电子流在向阳极运动的过程中把氩气电离，用得到的高密度的氩离子流轰击清洗工件，增强工件的轰击清洗效果，提高膜基结合力；在镀膜过程中，固体弧光等离子体清洗源的阴极参与镀纳米多层膜；在磁控溅射镀膜机中发挥辅助沉积作用。 | ||
| 搜索关键词： | 弧光等离子体 清洗 镀膜机 磁控溅射镀膜机 阴极 本实用新型 轰击 等离子体 阴极电弧离子 磁控溅射靶 溅射镀膜机 膜基结合力 纳米多层膜 阳极 镀膜过程 辅助沉积 弧光放电 平面磁控 清洗工件 清洗过程 清洗效果 氩离子流 氩气电离 镀膜室 管型柱 旋靶 两极 | ||
【主权项】：
1.一种设置固体弧光等离子体清洗源的镀膜机，镀膜机本体包括镀膜室、镀膜室内设置镀膜源、工件转架和固体弧光等离子体清洗源；其特征是固体弧光等离子体清洗源的阴极和阳极设置在工件转架的两侧。
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