[实用新型]一种单边循环碱洗槽有效
| 申请号: | 201720861977.1 | 申请日: | 2017-07-17 |
| 公开(公告)号: | CN206976297U | 公开(公告)日: | 2018-02-06 |
| 发明(设计)人: | 邵玉林 | 申请(专利权)人: | 无锡琨圣科技有限公司 |
| 主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L31/18 |
| 代理公司: | 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙)11350 | 代理人: | 汤东凤 |
| 地址: | 214000 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | 本实用新型公开了一种单边循环碱洗槽,包括主槽、嵌套设置在主槽下端的副槽、设置在主槽与副槽之间的若干导液装置及回流装置;所述主槽一端侧壁上端具有一溢流槽;所述副槽与主槽之间形成一截面呈U型的空腔;所述导液装置并列设置在空腔下端,包括转轴及设置在转轴侧壁上的螺旋导液板;所述转轴内部沿中轴线方向设置有电加热丝;所述回流装置包括固定在一侧空腔上端的抽液泵、与抽液泵连接的回流管及延伸至主槽内出液管;所述出液管与回流管相连通,上端面沿中轴线方向均布若干出液口。本实用新型设计了合理的导液装置,在导液过程中能够不断对液体进行加热,既保证溶液的工作温度,又能保证液体流动的高效平稳性。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 单边 循环 碱洗槽 | ||
【主权项】:
一种单边循环碱洗槽,其特征在于:包括主槽、嵌套设置在主槽下端的副槽、设置在主槽与副槽之间的若干导液装置及回流装置;所述主槽上端向外延伸一架设在副槽上端面的支撑板,一端侧壁上端具有一溢流槽;所述副槽与主槽之间形成一截面呈U型的空腔;所述导液装置并列设置在空腔下端,包括转轴及设置在转轴侧壁上的螺旋导液板;所述转轴内部沿中轴线方向设置有电加热丝;所述回流装置包括固定在一侧空腔上端的抽液泵、与抽液泵连接的回流管及延伸至主槽内出液管;所述回流管沿竖直方向设置在空腔内,下端延伸至螺旋导液板端部,上端从主槽上端侧壁处延伸至主槽下端;所述出液管与回流管相连通,并通过若干固定扣固定在主槽底部,该出液管上端面沿中轴线方向均布若干出液口。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造





