[实用新型]旋转局部加热式半导体元件镀膜装置有效
申请号: | 201720832410.1 | 申请日: | 2017-07-11 |
公开(公告)号: | CN206872930U | 公开(公告)日: | 2018-01-12 |
发明(设计)人: | 叶敏 | 申请(专利权)人: | 象山铭业光电科技有限公司 |
主分类号: | C23C14/24 | 分类号: | C23C14/24;C23C14/50 |
代理公司: | 重庆强大凯创专利代理事务所(普通合伙)50217 | 代理人: | 李静 |
地址: | 315700 浙江省*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本实用新型属于半导体制造技术领域,公开了一种旋转局部加热式半导体元件镀膜装置,包括用于固定长方体状半导体元件的固定架,固定架可转动,所述固定架外围设有L型的滑轨,滑轨包括相互垂直连接的横向滑轨和竖向滑轨,横向滑轨与固定架之间的距离和竖向滑轨与固定架之间的距离之差等于长方体状半导体元件长宽之差的二分之一;滑轨上滑动设置有若干个坩埚,每个坩埚内均固定设置有蒸发源;还包括L型的固定杆,固定杆沿滑轨设置,且固定杆位于滑轨远离固定架的一侧,固定杆上滑动设有若干个加热源。本实用新型解决了现有镀膜装置对于长方体状半导体元件镀膜时镀膜厚度不均的技术问题。 | ||
搜索关键词: | 旋转 局部 加热 半导体 元件 镀膜 装置 | ||
【主权项】:
旋转局部加热式半导体元件镀膜装置,包括用于固定长方体状半导体元件的固定架,固定架可转动,其特征在于:所述固定架外围设有L型的滑轨,滑轨包括相互垂直连接的横向滑轨和竖向滑轨,横向滑轨与固定架之间的距离和竖向滑轨与固定架之间的距离之差等于长方体状半导体元件长宽之差的二分之一;滑轨上滑动设置有若干个坩埚,每个坩埚内均固定设置有蒸发源;还包括L型的固定杆,固定杆沿滑轨设置,且固定杆位于滑轨远离固定架的一侧,固定杆上滑动设有若干个加热源。
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