[实用新型]一种新型均匀易控真空镀膜装置

摘要

本实用新型公开了一种新型均匀易控真空镀膜装置，它包含真空室、真空吸管、真空泵、氮气管、加热坩埚、坩埚支撑架、电加热丝、金属原材料、磁感线圈、引导仓、磁感金属柱、真空镀膜件和镀膜件连接杆，真空室左下角通过真空吸管与真空泵连接，真空室右下角设有氮气管，真空室内部设有加热坩埚，加热坩埚由坩埚支撑架支撑，加热坩埚上设有电加热丝，加热坩埚内设有金属原材料。它采用对蒸发原材料进行电磁处理，使内部的电子转移到一端，蒸发后的金属粒子带正点，然后同样利用电磁原理让镀件带正电，让蒸发出来的粒子悬浮在真空层内积累一段时间，然后改变镀件的电性，让粒子均匀的吸附在其表面，从而达到镀膜均匀的目的。

主权项

一种新型均匀易控真空镀膜装置，其特征在于：它包含真空室(1)、真空吸管(2)、真空泵(3)、氮气管(4)、加热坩埚(5)、坩埚支撑架(6)、电加热丝(7)、金属原材料(8)、磁感线圈(9)、引导仓(10)、磁感金属柱(11)、真空镀膜件(12)和镀膜件连接杆(13)，真空室(1)左下角通过真空吸管(2)与真空泵(3)连接，真空室(1)右下角设有氮气管(4)，真空室(1)内部设有加热坩埚(5)，加热坩埚(5)由坩埚支撑架(6)支撑，加热坩埚(5)上设有电加热丝(7)，加热坩埚(5)内设有金属原材料(8)，金属原材料(8)下侧设有磁感线圈(9)，加热坩埚(5)上侧设有引导仓(10)，引导仓(10)上设有磁感金属柱(11)，引导仓(10)上侧设有真空镀膜件(12)，真空镀膜件(12)上侧设有镀膜件连接杆(13)。