[实用新型]一种低压超级结沟槽掩膜板有效
| 申请号： | 201720251495.4 | 申请日： | 2017-03-15 |
| 公开（公告）号： | CN206594444U | 公开（公告）日： | 2017-10-27 |
| 发明（设计）人： | 杨乐;刘挺;岳玲 | 申请（专利权）人： | 西安龙腾新能源科技发展有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/60 | 分类号： | G03F1/60 |
| 代理公司： | 西安新思维专利商标事务所有限公司61114 | 代理人： | 李罡 |
| 地址： | 710021 陕西*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种低压超级结沟槽掩膜板，所述沟槽掩膜板的源极区沟槽为分区并联的图形，令靠近栅极的沟槽拐角实施直角、弧形、斜角，所述沟槽拐角位于沟槽掩膜板左边中间区域两个拐角。本实用新型将源极从大面积单一极性优化为多块源极并联设计，使其可以使用更优化的拐角设计，让产品达到应用对参数的要求。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 低压 超级 沟槽 掩膜板 | ||
【主权项】：
一种低压超级结沟槽掩膜板，其特征在于：所述沟槽掩膜板的源极区沟槽为分区并联的图形，令靠近栅极的沟槽拐角实施直角、弧形、斜角。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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