[实用新型]一种银饰批量处理设备有效
申请号: | 201720038837.4 | 申请日: | 2017-01-13 |
公开(公告)号: | CN206635415U | 公开(公告)日: | 2017-11-14 |
发明(设计)人: | 杨永亮;李娜;岳莉;张泓筠;黄庆新 | 申请(专利权)人: | 凯里学院 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;G01N17/00;G01N21/25 |
代理公司: | 上海精晟知识产权代理有限公司31253 | 代理人: | 熊娴,冯子玲 |
地址: | 556011 贵州省黔东南苗*** | 国省代码: | 贵州;52 |
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摘要: | 本实用新型提供一种银饰批量处理设备,其特征在于,包括气体注入设备、真空腔、反应腔、匀气装置;所述反应腔设置于所述真空腔内,并且所述反应腔设置有至少一个进气孔和至少一个出气孔;所述匀气装置分别设置于所述进气孔和所述出气孔处;所述气体注入设备通过导管与所述进气孔连接。通过增设匀气装置,来对采用化学气相沉积技术对银饰进行处理过程中,实现匀气处理。从而使得保护膜层厚度更加均匀,从而使得银饰的外观及抗变色能力增强,通过增加测试装置,从而在银饰批量处理过程中,对银饰的处理效果进行实时监测,提高处理质量。 | ||
搜索关键词: | 一种 银饰 批量 处理 设备 | ||
【主权项】:
一种银饰批量处理设备,其特征在于,包括:气体注入设备、真空腔、反应腔、匀气装置和测试装置;所述反应腔设置于所述真空腔内,并且所述反应腔设置有至少一个进气孔和至少一个出气孔;所述匀气装置分别设置于所述进气孔和所述出气孔处;所述气体注入设备通过导管与所述进气孔连接;其中,测试装置包含:样本承载架、移动轨道、腐蚀测试仪和光谱测试仪;所述样本承载架设置于所述反应腔内,所述反应腔与所述真空腔之间设置有第一密封接口,所述移动轨道与所述样本承载架连接;所述移动轨道穿过所述第一密封接口,分别与所述腐蚀测试仪和所述光谱测试仪连接。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的