[发明专利]一种CIGS太阳能电池吸收层表面的处理方法在审
申请号: | 201711491229.X | 申请日: | 2017-12-30 |
公开(公告)号: | CN108172665A | 公开(公告)日: | 2018-06-15 |
发明(设计)人: | 彭寿;蒋卓睿;刘小雨;王策;张宽翔;王云飞 | 申请(专利权)人: | 凯盛光伏材料有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L31/032;H01L31/0749 |
代理公司: | 安徽省蚌埠博源专利商标事务所 34113 | 代理人: | 陈俊 |
地址: | 233010 安徽*** | 国省代码: | 安徽;34 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开一种CIGS太阳能电池吸收层表面的处理方法,包括以下步骤:S1、在衬底表面由内至外依次制备金属背电极与CIGS吸收层;S2、将固体Ga2S3放入坩埚中加热,形成Ga2S3蒸气;S3、利用Ga2S3蒸气在CIGS吸收层表面镀制Ga2S3膜层;S4、在Ga2S3膜层表面蒸镀In2S3缓冲层;在吸收层表面镀制Ga2S3膜层,In2S3作为缓冲层,Ga2S3与In2S3的化学性质类似,不会导致缓冲层和吸收层禁带宽度失调的问题,而且S元素的掺入对提高吸收层禁带宽度十分有利,有效解决了吸收层表面Ga含量过低的问题。 1 | ||
搜索关键词: | 吸收层 缓冲层 表面镀 禁带 膜层 金属背电极 衬底表面 膜层表面 有效解决 掺入 放入 蒸镀 坩埚 加热 失调 制备 | ||
【主权项】:
1.一种CIGS太阳能电池吸收层表面的处理方法,其特征在于,包括以下步骤:
S1、在衬底表面由内至外依次制备金属背电极与CIGS吸收层;
S2、将固体Ga2S3放入坩埚中加热,形成Ga2S3蒸气;
S3、利用Ga2S3蒸气在CIGS吸收层表面镀制Ga2S3膜层;
S4、在Ga2S3膜层表面蒸镀In2S3缓冲层。
2.根据权利要求1所述的一种CIGS太阳能电池吸收层表面的处理方法,其特征在于,步骤S2对固体Ga2S3的加热温度为1000~1200℃。3.根据权利要求1或2所述的一种CIGS太阳能电池吸收层表面的处理方法,其特征在于,所述Ga2S3膜层的厚度为30~70nm。4.根据权利要求1或2所述的一种CIGS太阳能电池吸收层表面的处理方法,其特征在于,所述In2S3缓冲层的厚度为50~90nm。5.根据权利要求1所述的一种CIGS太阳能电池吸收层表面的处理方法,其特征在于,步骤S1采用磁控溅射在衬底表面溅镀250~350nm厚度的 Mo膜层形成金属背电极;在金属背电极表面利用磁控溅射与蒸发镀膜工艺镀制1~3μm 厚度的CIGS膜,并进行500~700℃的RTP处理,得到CIGS吸收层。6.根据权利要求1所述的一种CIGS太阳能电池吸收层表面的处理方法,其特征在于,在步骤S4之前还包括对Ga2S3膜层的热处理步骤,在400~600℃条件下对Ga2S3膜层热处理2~8分钟。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于凯盛光伏材料有限公司,未经凯盛光伏材料有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201711491229.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种MWT组件预粘接加热方法
- 下一篇:一种太阳能电池片裂片后分片装置
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的