[发明专利]液处理装置和液处理方法在审

专利信息
申请号: 201711481918.2 申请日: 2017-12-29
公开(公告)号: CN108269751A 公开(公告)日: 2018-07-10
发明(设计)人: 竹口博史;脇山辉史;伊藤规宏 申请(专利权)人: 东京毅力科创株式会社
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种能够以简单的结构在基板的中心位置和外周位置实现与位置相应的液处理的液处理装置和液处理方法。液处理装置具备:保持机构,其保持基板;旋转机构,其使被保持机构保持的基板旋转;喷嘴,其配置为与基板的面相向;以及第一供给路和第二供给路,该第一供给路和第二供给路连接于喷嘴。喷嘴具有:共通流路,其沿从基板的中心部朝向周缘部的径向延伸;以及多个喷出口,该多个喷出口连接于共通流路,沿径向配置。第一供给路连接于共通流路中的基板周缘部侧,将第一液供给到共通流路。第二供给路连接于共通流路中的基板中心部侧,将第二液供给到共通流路。第一供给路与第二供给路经由共通流路相连通。
搜索关键词: 共通流路 供给路 基板 液处理装置 喷嘴 液处理 喷出口 基板中心部 基板周缘部 基板旋转 径向配置 径向延伸 外周位置 旋转机构 中心部 周缘部 配置
【主权项】:
1.一种液处理装置,具备:保持机构,其保持基板;旋转机构,其使被所述保持机构保持的所述基板旋转;喷嘴,其配置为与所述基板的面相向;以及第一供给路和第二供给路,该第一供给路和第二供给路连接于所述喷嘴,其中,所述喷嘴具有:共通流路,其沿从所述基板的中心部朝向周缘部的径向延伸;以及多个喷出口,该多个喷出口连接于所述共通流路,沿所述径向配置,所述第一供给路连接于所述共通流路中的所述基板的周缘部侧,将第一液供给到所述共通流路,所述第二供给路连接于所述共通流路中的所述基板的中心部侧,将温度和浓度中的至少任一方与所述第一液不同的第二液供给到所述共通流路,所述第一供给路与所述第二供给路经由所述共通流路相连通。
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