[发明专利]ArF准分子激光光场能量均匀性检测的能量探测器设计方法在审
申请号: | 201711443199.5 | 申请日: | 2017-12-27 |
公开(公告)号: | CN107941331A | 公开(公告)日: | 2018-04-20 |
发明(设计)人: | 曹益平 | 申请(专利权)人: | 四川大学 |
主分类号: | G01J1/42 | 分类号: | G01J1/42;G03F7/20 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 610065 四川*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本发明公开了一种针对投影式光刻系统中的脉冲激光光场能量均匀性测试的装置和方法。本发明使用的是探针步进扫描法,使用两个紫外传感器分别检测脉冲激光与自然光中的紫外光。紫外传感器采集到信号后,依次进行I/V转换,前置放大,差分相减,消除掉自然光中紫外成分的干扰后再进行积分处理,通过计数和同步控制逻辑对一定个数脉冲激光的能量实现的周期性探测,每个周期的能量在经过AD转换后将信号传递给单片机,同时通过单片机与PC相连,可以使用PC来对信号进行后续的分析。本发明是一个能量探测器系统,具有很高的精度和可控性。 | ||
搜索关键词: | arf 准分子激光 能量 均匀 检测 探测器 设计 方法 | ||
【主权项】:
一种适用于光学投影曝光光刻机中检测脉冲激光光场均匀性的方法,其特征在使用探针步进扫描法来控制紫外传感器,并在获得电流信号以后对其进行I/V转换,前置放大,积分处理和AD转换等处理,通过计数和同步控制逻辑对光场能量进行探测,并在通过单片机后将其数据传送到PC上进行进一步的分析。
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