[发明专利]一种FeGa合金衬底的AlN薄膜及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201711415633.9 申请日: 2017-12-25
公开(公告)号: CN108165928A 公开(公告)日: 2018-06-15
发明(设计)人: 彭斌;谢小伟;张万里;张文旭;黄飞 申请(专利权)人: 电子科技大学
主分类号: C23C14/06 分类号: C23C14/06;C23C14/16;C23C14/02;C23C14/35
代理公司: 电子科技大学专利中心 51203 代理人: 闫树平
地址: 611731 四川省成*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明属于薄膜型声表面波传感器的制造领域,具体涉及一种FeGa合金衬底的AlN薄膜。该FeGa合金衬底的AlN薄膜由从下至上依次堆叠的FeGa合金层、缓冲层和AlN薄膜构成;缓冲层由与FeGa合金层接触的缓冲下层和与AlN薄膜接触的缓冲上层构成,FeGa合金层、缓冲下层、缓冲上层和AlN薄膜的热膨胀系数为依次递减的梯度关系。本发明在FeGa合金层与AlN薄膜之间设置了一层缓冲层,缓冲层的作用是让FeGa合金和AlN材料在热膨胀方面能够匹配。缓冲层的两种材料作为中间缓冲层,能够实现热膨胀阶梯型的变化以解决热适配问题。通过缓冲上层晶格的进一步选择,还可使AlN薄膜质量提升,进而更加符合磁声表面波传感器应用对高质量AlN薄膜的需求。 1
搜索关键词: 缓冲层 合金层 合金衬 缓冲 热膨胀 缓冲下层 上层 声表面波传感器 表面波传感器 热膨胀系数 中间缓冲层 梯度关系 依次递减 质量提升 薄膜型 阶梯型 磁声 堆叠 晶格 适配 制备 合金 匹配 应用 制造
【主权项】:
1.一种FeGa合金衬底的AlN薄膜,其特征在于:

包括从下至上依次堆叠的FeGa合金层、缓冲层和AlN薄膜;

所述缓冲层由与FeGa合金层接触的缓冲下层和与AlN薄膜接触的缓冲上层构成,FeGa合金层、缓冲下层、缓冲上层和AlN薄膜的热膨胀系数为依次递减的梯度关系;

所述AlN薄膜选用高(0002)轴取向的AlN材料。

2.如权利要求1所述FeGa合金衬底的AlN薄膜,其特征在于:所述缓冲下层为Cr金属层,缓冲上层为Mo金属。

3.如权利要求1所述FeGa合金衬底的AlN薄膜的制备方法:

步骤1、表面处理:将铁镓合金基底依次进行粗抛光、细抛光、清洗,然后于惰性保护气体环境下烘干;

步骤2、在步骤1烘干的基底上依次制备Cr金属层、Mo金属层和AlN薄膜。

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