[发明专利]一种金属网格膜的制备方法在审
| 申请号： | 201711415342.X | 申请日： | 2017-12-25 |
| 公开（公告）号： | CN108103534A | 公开（公告）日： | 2018-06-01 |
| 发明（设计）人： | 彭寿;汤永康;马立云;金良茂;甘治平;李刚 | 申请（专利权）人： | 中建材蚌埠玻璃工业设计研究院有限公司 |
| 主分类号： | C25D1/10 | 分类号： | C25D1/10;C25D3/38;H01B13/00 |
| 代理公司： | 安徽省蚌埠博源专利商标事务所 34113 | 代理人： | 陈俊 |
| 地址： | 233010 安徽*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明公开一种金属网格膜的制备方法，包括以下步骤：S1、在基底表面制备均匀的单层聚苯乙烯微球胶体晶体；S2、以步骤S1处理后的基底为阴极，以准备镀制的金属为阳极，以该金属的盐溶液为电镀液，采用电化学沉积工艺，以单层聚苯乙烯微球胶体晶体为模板在基底表面沉积金属层；S3、去除单层聚苯乙烯微球胶体晶体，留在基底表面的金属层即是金属网格膜；电化学沉积时，被电离的金属离子沉积在聚苯乙烯微球胶体晶体的间隙之间，通过调节沉积时间与沉积电流密度，即可控制金属层的沉积厚度，去除模板后即得到金属网格膜；根据需要改变聚苯乙烯微球的尺寸，即可以改变金属网格膜的网孔大小，从而使金属网格膜的光学透过率精准可控。 | ||
| 搜索关键词： | 金属网格 聚苯乙烯微球 胶体晶体 基底表面 单层 沉积 制备 电化学沉积 金属层 去除 阴极 金属离子沉积 沉积金属层 光学透过率 金属 阳极 电离 电镀液 盐溶液 镀制 基底 可控 网孔 | ||
【主权项】：
1.一种金属网格膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：S1、在基底表面制备均匀的单层聚苯乙烯微球胶体晶体；S2、以步骤S1处理后的基底为阴极，以准备镀制的金属为阳极，以该金属的盐溶液为电镀液，采用电化学沉积工艺，以单层聚苯乙烯微球胶体晶体为模板在基底表面沉积金属层；S3、去除单层聚苯乙烯微球胶体晶体，留在基底表面的金属层即是金属网格膜。
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