[发明专利]一种MWT硅太阳能电池的制备方法在审
申请号: | 201711346984.9 | 申请日: | 2017-12-15 |
公开(公告)号: | CN108183147A | 公开(公告)日: | 2018-06-19 |
发明(设计)人: | 李质磊;吴仕梁;逯好峰;安欣睿;路忠林;张凤鸣 | 申请(专利权)人: | 南京日托光伏科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L31/028;H01L31/0224 |
代理公司: | 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 | 代理人: | 王艳丽 |
地址: | 211800 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种MWT硅太阳能电池的制备方法,包括:制绒:在硅片上制绒,形成光陷阱表面;扩散:使用扩散源在绒面上扩散掺杂形成PN结;掩膜:在硅片背表面制备起刻蚀掩蔽作用的掩膜;刻蚀:利用化学药液去除硅片边缘及背面多余的PN结;去除掩膜浆料;去除磷硅玻璃;镀膜:在硅片正表面镀氮化硅减反膜;印刷:印刷背面电极和正面电极;烧结;激光打孔:在电池片上激光打孔;灌孔:采用导电介质灌孔,导通正面栅线与背面的正电极,最后干燥固化。本发明通过将激光打孔工序放到最后工序降低了全线碎片率。 | ||
搜索关键词: | 激光打孔 掩膜 去除 制备 硅太阳能电池 灌孔 刻蚀 制绒 掩蔽 硅片背表面 硅片正表面 印刷 背面电极 导电介质 干燥固化 硅片边缘 化学药液 扩散掺杂 磷硅玻璃 正面电极 正面栅线 烧结 氮化硅 电池片 光陷阱 扩散源 碎片率 正电极 硅片 导通 镀膜 浆料 背面 扩散 | ||
【主权项】:
1.一种MWT硅太阳能电池的制备方法,其特征在于,包括:(1)制绒:在硅片上制绒,形成光陷阱表面;(2)扩散:使用扩散源在绒面上扩散掺杂形成PN结;(3)掩膜:在硅片背表面制备起刻蚀掩蔽作用的掩膜;(4)刻蚀:利用化学药液去除硅片边缘及背面多余的PN结;去除掩膜浆料;去除磷硅玻璃;(5)镀膜:在硅片正表面镀氮化硅减反膜;(6)电极制备:制备背电极和正电极、背电场和正面栅线;(7)烧结;(8)激光打孔:在电池片上激光打孔;(9)灌孔:采用导电介质灌孔,导通正面栅线与背面的正电极,最后干燥固化。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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