[发明专利]一种基于白光干涉间隙检测和超精密对准套刻技术的分离式近场微纳光刻方法和装置在审
| 申请号： | 201711334920.7 | 申请日： | 2017-12-14 |
| 公开（公告）号： | CN108037640A | 公开（公告）日： | 2018-05-15 |
| 发明（设计）人： | 罗先刚;龚天诚;赵承伟;王长涛;刘玲;张健;刘凯鹏 | 申请（专利权）人： | 中国科学院光电技术研究所 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 610209 *** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种基于白光干涉间隙检测和超精密对准套刻技术的分离式近场微纳光刻方法和装置，该方法可实现大面积分离式曝光和超精密对准套刻，该装置包括超精密环控系统、主动隔振平台、支撑框架、紫外曝光光源、光刻镜头模块、间隙检测系统、对准模块、承片台模块和控制系统。该装置通过白光干涉光谱测量技术，可实现纳米量级的在线间隙检测和调平，从而实现分离式曝光；通过对准模块和控制系统，可实现超精密对准套刻技术。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 白光 干涉 间隙 检测 精密 对准 技术 分离 近场 光刻 方法 装置 | ||
【主权项】：
1.一种基于白光干涉间隙检测和超精密对准套刻技术的分离式近场微纳光刻装置，其特征在于：该装置包括超精密环控系统(1)、主动隔振平台(2)、大理石平板(3)、支撑框架(4)、主基板(5)、紫外曝光光源(6)、光刻镜头模块(7)、间隙检测系统(8)、对准模块(9)、承片台模块(10)和控制系统(11)，主动隔振平台(2)、大理石平板(3)、支撑框架(4)、主基板(5)、紫外曝光光源(6)、光刻镜头模块(7)、间隙检测系统(8)、对准模块(9)和承片台模块(10)安装在超精密环控系统(1)罩壳内，主动隔振平台(2)安装在减振地基上，大理石平板(3)安装在主动隔振平台(2)上，支撑框架(4)和承片台模块(10)安装在大理石平板(3)上，主基板(5)安装在支撑框架(4)上，紫外曝光光源(6)、光刻镜头模块(7)、间隙检测系统(8)、对准模块(9)安装在主基板(5)上，控制系统(11)安装在超精密环控系统(1)罩壳外；光刻镜头模块(7)安装在主基板(5)的中心沉槽内，光刻镜头模块(7)中安装有掩模版(12)，掩模版(12)上加工有光刻图形区(13)、对准图形区(14)和间隙检测窗口区(15)，其中，光刻图形区(13)位于掩模版(12)上高度为h的凸台上。
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