[发明专利]平板类光学元件环形抛光面形精调方法

摘要

本发明公开了一种平板类光学元件环形抛光面形精调方法，利用平板类光学元件在环抛过程中的热变形来调节其反射/透射面形变化，在抛光模面形保形期创造一种快速、可控的元件面形高低转化，能够大幅提升该类元件环形抛光反射/透射波前分布控制效率。本发明特别适用于热膨胀系数大、易变形的平板类光学元件，如400mm口径激光钕玻璃片状元件，有效克服了该类元件环形抛光过程中面形控制的不确定性，米量级平板类光学元件的加工精度，面形PV优于1/5λ(λ＝632.8nm)，GRMS优于1/90λ。

主权项

1.一种平板类光学元件环形抛光面形精调方法，该方法包括步骤：步骤1)抛光模修形：将抛光盘的转速调至其可调范围的中间值，利用改变校正盘偏心率的方式对抛光模进行修形，在修形过程中使用干涉仪测量所述的光学元件面形，直至该光学元件面形PV小于1λ，λ＝632.8nm，且像散小于0.3λ，然后根据抛光模的面形变化特点，选择合适的偏心距，使之进入面形保形期；其特征在于，还包括：步骤2)标定抛光盘转速调节量与元件面形变化量的比例系数K,具体如下：保持工件环/抛光盘的转速比为1，改变抛光盘转速，抛光至少4小时后下盘测量元件面形，重复10次或以上；然后以元件面形离焦为Y轴，抛光盘转速为X轴，对数据进行线性拟合，斜率即为比例系数K；步骤3)保持工件环/抛光盘的转速比为1，调节抛光盘转速：若元件面形为低圈，则需调高抛光盘转速，调节量计算公式如下：式中：ΔP为当前面形离焦与指标要求的差值；若元件面形为高圈，则需调低抛光盘转速，调节量计算公式如下：式中：ΔP为当前面形离焦与指标要求的差值；步骤4)每抛光4‑6小时后下盘，利用干涉仪检测面形，如果面形检测结果与指标要求有偏差，则返回步骤3)，进行再次加工，直至达到指标要求。